Ni Cameron Chai
ASM International ay natanggap ng maramihang mga order para sa nito plasma pinahusay atomic layer reaktor salaysay (PEALD) mula sa isang Asian customer memory. Ang kumpanya ay qualified ang isang PEALD application oksido sa isa pang memory tagagawa para sa 2X na node nm.
General Manager ng plasma division ASM Produkto negosyo, Tominori Yoshida inihayag na bukod sa dagdagan ang mass produksyon, ang portfolio ng kumpanya ng produksyon-handa PEALD na application pagyari support memory sa 1X node nm.
Ang mga sistema na iniutos sa pamamagitan ng isang pangunahing customer ay paganahin ang bulk na manufacturing at ay inkorporada sa maramihang mga Asian na mga pasilidad. Ang mga reactors ay makakatulong sa dielectrics ng deposito upang magamit sa mga advanced na litograpya double application patterning sa 3X nm at sa ibaba ng node. Ang kumpanya ay qualified ng isang oksaid aplikasyon para sa isang advanced na layer PEALD SiO para sa produksyon sa 2X nm at sa ibaba ng node. Ito ay inaasahang upang umpisahan ang mass produksyon mamaya sa taong ito para sa isa pang Asian produksyon ng kumpanya.
Ang reactors ay optimize sa deposito ng mga dielectrics tulad ng SiO, kasalanan at SiCN. Maaari din ito maghatid ng conformal manipis na pelikula sa pinababang temperatura upang paganahin ang mga double patterning litograpya teknolohiya na kasangkot manipis dielectrics ng salaysay sa photoresists na sensitibo sa temperatura upang masubaybayan ng mahalagang mga sukat control at mas mababang itayo.
Ang mga sistema ng isama ang maramihang PEALD reactors na naka-install sa XP platform ng kumpanya. Ang XP ay maaaring isinaayos sa salaysay ng plasma pinahusay na kemikal singaw (PECVD), thermal ALD o PEALD reactors.
Source: http://www.asm.com