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Posted in | Nanolithography

ASM International的资格2X nm节点不同的记忆体制造商新PEALD氧化物应用

Published on May 5, 2011 at 7:22 AM

由Cameron湾仔

ASM国际已收到其等离子体增强原子层沉积(PEALD)反应堆的多个订单,从亚洲的内存客户。该公司与另一2X nm节点的记忆体制造商资格PEALD氧化物应用程序。

ASM的等离子产品业务部总经理,Tominori吉田宣布,除了增加大量生产,生产准备PEALD应用支持1X纳米节点的内存制造公司的组合。

由一名主要客户订购该系统将启用批量制造,将在多个亚洲工厂成立。该反应堆将有助于存款,以先进的光刻技术的双重图形应用在3X纳米及以下节点的电介质。公司拥有合格的先进PEALD二氧化硅层为生产,在2X纳米及以下节点的氧化物的应用。预计今年晚些时候展开另一个亚洲公司生产的大规模生产。

该反应堆已被优化的存款,如二氧化硅,氮化硅和SiCN电介质。它也可以提供在降低温度的形薄膜,使涉及薄电介质沉积光致抗蚀剂的温度很敏感的显示器的重要尺寸控制和音调较低的双重图形光刻技术。

该系统包括公司的XP平台上安装了多个PEALD反应堆。 XP可以配置与等离子体增强化学气相淀积(PECVD),热ALD的或PEALD反应堆。

来源: http://www.asm.com

Last Update: 7. October 2011 08:50

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