卡梅倫柴
ASM 國際從亞裔內存客戶收到了其等離子改進的 (PEALD)基本層證言反應器的多個訂單。 這家公司在 2X nm 節點合格了與另一個內存製造商的一種 PEALD 氧化物應用。
ASM 的等離子產品企業部門的總經理， Tominori 吉田宣佈了除增量大量生產，生產準備好的 PEALD 應用支持內存製造公司的投資組合以外在 1X nm 節點的。
一個主要客戶定購的系統將啟用批量製造，并且合併在多個亞洲設施。 反應器將幫助存款用於先進的石版印刷雙仿造的應用的電介質在這个 3X nm 和在節點下。 這家公司在生產的一塊先進的 PEALD SiO 層合格了氧化物應用在這个 2X nm 和在節點下。 預計今年下半年開始大量生產的另一家亞洲生產公司。
反應器被優選存款電介質例如 SiO，罪孽和 SiCN。 它可能也傳送保形薄膜在減少的溫度啟用介入在光致抗蝕劑的稀薄的電介質證言對溫度是敏感的對監控程序重要維數控制和低投球的雙仿造的石版印刷技術。
系統包括在公司的 XP 平臺安裝的多個 PEALD 反應器。 XP 可以配置以等離子改進的化學氣相沉積 (PECVD)，熱量 ALD 或 PEALD 反應器。
來源： http://www.asm.com