Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanoelectronics

Applied Materials Использование двойного Вафельные концепции в целях повышения Chipmaking процесса

Published on June 18, 2011 at 4:35 AM

По Камерон Чай

Applied Materials объявила о расширении своей прикладной Рефлексия CMP система включить планаризации вольфрама фильмов. Эта система СМР принимает участие в изготовлении транзисторов контактов и переходных отверстий в передовых NAND, DRAM, и логические устройства.

Applied Materials является единственным производителем вольфрама системы CMP предложить замкнутой однородность толщины пленки и управления, необходимых для выполнения высоких производства современных конструкций транзистора.

Lakshmanan Karuppiah, прикладной CMP, генеральный директор заявил, что производство передовых чипов стало сложной задачей и включает в себя добавил вольфрама CMP этапы и расширенного управления процессом. Но передовые на пластине производительность по доступной стоимости системы Рефлексия GT чипов помогает преодолеть эти проблемы. Использование системы Рефлексия GT для медных приложений показал значение двойной пластины концепции в результате чего значительная доля рынка прибыль в chipmaking процесса, добавил он.

Уникальный двухрежимный архитектура этой системы позволяет обрабатывать две пластины одновременно на каждой полировальником улучшить объемы, тем самым снижая затраты на расходные материалы.

Передовых, системы реального времени использования и конечной точкой возможности управления обладают выдающимися повторяемость профиля и контроля.

Источник: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 7. October 2011 08:11

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit