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Beneq, zum Erster Rolle-zu-Rolle ALD Anlage an Universität in Finnland Zu Entbinden

Published on June 19, 2011 at 9:18 PM

Nach der bahnbrechenden Arbeit in der räumlichen Atomschichtabsetzung und der Produkteinführung des Revolutionierenforschung und entwicklung Hilfsmittels TFS 200R für kontinuierliches ALD im Jahre 2009, hat Beneq das Abkommen für eine Rolle-zurolle ALD Anlage, das Selennetz-Anstrichsystem WCS 500 geschlossen. Das erste Gerät WCS 500 wird an das Astrallabor an Lappeenranta-Technischer Hochschule (FLOSSE) entbunden.

Beneq CTO, Dr. Tommi Vainio sagt: „Das WCS 500 ist eine wahre Rolle-zurolle ALD Plattform, konstruiert, um Schuppe-oben von R&D zu aktivieren, Herstellung zu steuern. Mit dem WCS 500, schauen wir, um besonders den steigenden Bedarf an den hochwertigen Feuchtigkeitssperren in der flexiblen Elektronikindustrie zu erfüllen. Wir glauben, dass es mehrfache Gelegenheiten für ein Produkt gibt, das hohe ALD-Filmqualität mit der Produktivität und den Kosten des Besitzes von Rolle-zurolle Herstellung kombiniert. WCS 500 nimmt Selennetze bis 500 mm in der Breite“ an.

Professor David Cameron, Direktor von Astral sagt: „Das Hilfsmittel WCS 500 erschließt viele neuen aufregenden Forschungsbereiche in den Dünnfilmmaterialien. Die neue Anlage erlaubt uns, auf unserer bahnbrechenden Arbeit über den kontinuierlichen ALD-Prozess aufzubauen und neue Rolle-zurolle Anwendungen zu entwickeln, in denen ALD ist nicht gewesen brauchbar bis jetzt.“

Über Beneq

Beneq Oy, angesiedelt in Finnland, ist ein Lieferant der Geräten- und Beschichtungstechnologie für globale Märkte. Beneq macht Innovationen zu Erfolg, indem er Anwendungen und Gerät für cleantech und der erneuerbaren Energie Bereiche, besonders in den Glas-, Solar- und Auftauchendes Dünnfilms Märkten entwickelt. Beschichtungsanwendungen umfassen Optik, Sperren und Passivierungsschichten sowie Energiegewinnung und Erhaltung. Beneq bietet auch komplette Beschichtungsdienstleistungen an. Die Beschichtungsanwendungen von Beneq basieren auf zwei aktivierenden Nanotechnologieplattformen: AtomSchicht-Absetzung (ALD) und Aerosolbeschichtung (nHALO und nAERO).

Last Update: 12. January 2012 13:49

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