Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Beneq для того чтобы Поставить Первую Систему Крен-к-Крена ALD к Университету в Финляндии

Published on June 19, 2011 at 9:18 PM

После новаторския работ в пространственном атомном низложении слоя и старта инструмента TFS 200R научных исследований и разработки революционизировать для непрерывного ALD в 2009, Beneq закрыло дело для системы крен-к-крена ALD, Системы Покрытия WCS Сети 500. Первый блок WCS 500 будет поставлен к Астральной лаборатории на Технологическом Университете Lappeenranta (РЕБРЕ).

Beneq CTO, Др. Tommi Vainio говорит: «WCS 500 истинная платформа крен-к-крена ALD, конструированная для того чтобы позволить маштаб-вверх от R&D пилотировать изготавливание. С WCS 500, мы смотрят, что соотвествуем специально растущая потребность для высокомарочных барьеров влаги в гибкой индустрии электроники. Мы верим что множественные возможности для продукта который совмещает высокое качество фильма ALD с урожайностью и ценой владения изготавливания крен-к-крена. WCS 500 признавает сети до 500 mm в ширине».

Профессор David Cameron, Директор Астрального говорит: «Инструмент WCS 500 раскроет вверх по много новых exciting зон исследования в материалах тонкого фильма. Новая система позволит нам построить на нашем новаторские работ на непрерывном процессе ALD и начать романные применения крен-к-крена где ALD не годно к употреблению вверх до теперь.»

О Beneq

Beneq Oy, основанное в Финляндии, поставщик технологии оборудования и покрытия для мировых рынков. Beneq поворачивает рационализаторства в успех путем развивать применения и оборудование для полей cleantech и возобновляющей энергии, специально в рынках стекла, солнечных и вытекать тонкого фильма. Применения Покрытия включают оптику, барьеры и слои запассивированности, так же, как поколение и консервацию энергии. Beneq также предлагает полные обслуживания покрытия. Применения покрытия Beneq основаны на 2 позволяя платформах нанотехнологии: Атомное Низложение Слоя (ALD) и покрытие аэрозоля (nHALO и nAERO).

Last Update: 12. January 2012 14:01

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit