提供第一个辊对辊 ALD 系统的 Beneq 到大学在芬兰

Published on June 19, 2011 at 9:18 PM

在空间的基本层证言的作早期工作在的工作和改革研究与开发工具之后 TFS 200R 的生成为持续 ALD 的,在 2009年 Beneq 结束了辊对辊 ALD 系统的,万维网涂层系统 WCS 500 交易。 第一个 WCS 500 部件将被提供到 Lappeenranta 科技大学的星实验室 (飞翅)。

Beneq CTO, Tommi Vainio 博士说: “WCS 500 是一个真的辊对辊 ALD 平台,被设计使从 R&D 的缩放比例驾驶制造。 使用 WCS 500,我们查找适应对优质湿气障碍的特别是成长必需品在灵活的电子工业。 我们相信有与辊对辊制造所有权的生产率和费用结合高 ALD 影片质量的产品的多个机会。 WCS 500 接受万维网在宽度的 500 mm”。

大卫・卡梅伦,主任教授星说: “WCS 500 工具将打开在薄膜材料的许多新的扣人心弦的研究领域。 新的系统在我们在持续 ALD 进程的作早期工作在的工作将允许我们编译和开发 ALD 不是可用的到现在的新颖的辊对辊应用”。

关于 Beneq

Beneq Oy,根据在芬兰,是设备和涂层技术的供应商世界市场的。 Beneq 把创新变成成功通过发展申请和设备对 cleantech 和可再造能源域,特别是在玻璃,太阳和涌现的薄膜市场上。 涂层应用包括光学、障碍和钝化层、以及能源生成和守恒。 Beneq 也提供完全涂层服务。 Beneq 的涂层应用在二个启用的纳米技术平台基础上: 基本层证言 (ALD)和湿剂涂层 (nHALO 和 nAERO)。

Last Update: 12. January 2012 16:14

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit