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Beneq提供的卷對卷的ALD系統在芬蘭大學

Published on June 19, 2011 at 9:18 PM

在空間的原子層沉積和推出了革命性的研究和開發工具,TFS在2009年連續ALD的200R的開拓性工作 ,Beneq封閉處理一個卷到卷的ALD系統,捲繞鍍膜系統WCS的500。第一WCS的500單位將交付星實驗室在拉彭蘭塔科技大學(芬蘭)。

Beneq首席技術官,博士TOMMI Vainio說:“在WCS的500一個真正滾來,滾 ALD的平台,設計,以使從 R&D規模試點生產使用的WCS的500,我們期待滿足,尤其是在對高增長的需要。質量靈活的電子行業中的水分屏障,我們相信有一個產品,它結合了卷對卷生產的所有權的生產力和成本高的ALD薄膜質量的多種機會。WCS的500接受腹板寬度為 500毫米“。

卡梅倫教授,ASTRAL主任說:“WCS的500工具將開放令人興奮的研究領域,許多新的薄膜材料,新系統將允許我們建立我們的開創性工作,連續 ALD工藝,並開發新的卷的。輥尚未ALD的應用程序中使用到現在。“

關於Beneq

Beneq Oy公司,總部設在芬蘭的,是全球市場的技術設備和塗層供應商。 Beneq變成成功的清潔技術和可再生能源領域的開發應用程序和設備的創新,特別是在玻璃,太陽能和新興的薄膜市場。塗層的應用,包括光學,障礙和鈍化層,以及生成和節約能源。 Beneq還提供完整的塗料的服務。 Beneq該塗層的應用程序是基於兩個有利的納米技術平台:原子層沉積(ALD)和氣溶膠塗料(nHALO和nAERO)。

Last Update: 6. October 2011 07:09

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