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Posted in | Nanolithography

SEMATECH, KLA-Tencor Arbeiten zusammen, um EUV-Lithographie-Technologie für Großserienfertigung Zu Entwickeln

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

Durch Cameron Chai

KLA-Tencor und SEMATECH erklärten die Verbindung von KLA-Tencor als Bauteil im Lithographie-Defekt-Reduzierungsprogramm von SEMATECH an der Universität an Albaniens College von Nanoscale-Wissenschaft und die Technik (CNSE).

Als Bauteil tut sich KLA-Tencor mit SEMATECH in bestimmten Bereichen wie Kennzeichen und Beseitigung von Defektquellen zusammen, indem er fortgeschrittene Metrologie, Kennzeichnungs- und Druckfähigkeitsprozesse verwendet, um Metrologiequellentwicklung zu erhöhen, Maskenmetrologieinfrastruktur und gesamte EUV-Produktion und -förderung.

EUV-Lithographie ist ein Prozess, in dem eine Quellwellenlänge 15 Zeit kürzeres festsetzt, als die von vorhandenen Lithographieanlagen wird verwendet. Sie erlaubt die Gradeinteilung von Halbleitern zu den Auflösungen von 10 nm und unten. Eine niedrige Defektdichte wird für hoch entwickelte Lithographiemethoden und für das Vorstellen von EUV-Lithographie-Technologie in Großserienfertigung gefordert, die erwartet wird, für den 22 nm der Halbabstand Knotenpunkt im Jahre 2012-2013 an den bedeutenden Produzentteildiensten der integrierten Schaltung gestartet zu werden.

Um die EUV-Lithographie betriebsbereit zu machen zur Massenproduktion, muss eine rigorose Bemühung auf Quellentwicklung, Maskenmetrologieinfrastruktur, Defektreduzierung, gesamtem manufacturability und extendibility genommen werden.

Der Vorsitzender des Vorstandes bei KLA-Tencor, Rick Wallace gab an, dass die Zusammenarbeit KLA-Tencors der fortgeschrittenen Lithographieprüfung und der Maßhilfsmittel mit Sachkenntnis SEMATECHS in EUV kritische Lösungen den Abnehmern und der Industrie der Firma anbietet. Die Firma ist glücklich über die Zusammenarbeit mit SEMATECH, hoch entwickelte Metrologielösungen zu konstruieren, die das grundlegende Defektkennzeichen anpacken können und Reduzierungsmethoden, die für EUV-Infrastruktur wichtig sind, er hinzufügte.

Entsprechend dem Vorsitzender des Vorstandes an SEMATECH, unterstützt Dan Armbrust, die Zusammenarbeit mit KLA-Tencor Fähigkeit SEMATECHS, die EUV-Lithographie-Herausforderungen zu bewältigen.

Quelle: http://www.sematech.org

Last Update: 12. January 2012 13:49

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