Posted in | Nanolithography

SEMATECH, KLA-Tencor Συνεργασία για την Ανάπτυξη Τεχνολογίας EUV Λιθογραφία για μαζική παραγωγή

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

Με Cameron Chai

KLA-Tencor και SEMATECH κήρυξε την ένωση των KLA-Tencor ως μέλος στο Ελάττωμα πρόγραμμα μείωσης Λιθογραφείο της SEMATECH στο Πανεπιστήμιο στο College του Albany της Νανοκλίμακα Επιστήμη και Τεχνολογία (CNSE).

Ως μέλος, KLA-Tencor θα εταίρος με SEMATECH σε ορισμένους τομείς, όπως η αναγνώριση και εξάλειψη των πηγών βλάβης, χρησιμοποιώντας προηγμένες διαδικασίες μετρολογίας, το χαρακτηρισμό και την δυνατότητα εκτύπωσης για την ενίσχυση της μετρολογίας ανάπτυξη πηγή, μάσκα υποδομών μετρολογίας και το σύνολο της παραγωγής EUV και την πρόοδο.

EUV λιθογραφία είναι μια διαδικασία στην οποία ένα μήκος κύματος πηγή 15 φορές μικρότερο από αυτό των υπαρχόντων συστημάτων λιθογραφίας χρησιμοποιείται. Επιτρέπει την κλιμάκωση των ημιαγωγών τα ψηφίσματά του 10 nm και κάτω. Μια χαμηλή πυκνότητα ελάττωμα απαιτείται για εξελιγμένες μεθόδους λιθογραφίας και για την εισαγωγή της λιθογραφίας EUV τεχνολογία σε μαζική παραγωγή, η οποία αναμένεται να ξεκινήσει για τα 22-nm κόμβο μισό γήπεδο το 2012-2013 σε μεγάλες εγκαταστάσεις ολοκληρωμένου κυκλώματος παραγωγούς.

Για να γίνει η λιθογραφία EUV έτοιμο για μαζική παραγωγή, μια αυστηρή προσπάθεια πρέπει να ληφθούν για την ανάπτυξη πηγή, μάσκα υποδομές της μετρολογίας, μείωση της βλάβης, ολόκληρο βιομηχανικής χρήσης και επεκτασιμότητα.

Ο Πρόεδρος και Διευθύνων Σύμβουλος σε KLA-Tencor, Rick Wallace δήλωσε ότι η συνεργασία των προηγμένων δοκιμών λιθογραφία KLA-Tencor και εργαλεία μέτρησης με εμπειρία SEMATECH στο EUV θα προσφέρει κρίσιμη λύσεις στους πελάτες της εταιρείας και του κλάδου. Η εταιρεία είναι ευτυχής για τη συνεργασία με SEMATECH για το σχεδιασμό προηγμένων λύσεων μετρολογίας που μπορούν να αντιμετωπίσουν το βασικό ελάττωμα εντοπισμό και τη μείωση της εκπομπής, οι οποίες είναι σημαντικές για την υποδομή EUV, πρόσθεσε.

Σύμφωνα με τον Πρόεδρο και Διευθύνοντα Σύμβουλο σε SEMATECH, Dan Armbrust, η συνεργασία με τον KLA-Tencor θα υποστηρίξει την ικανότητα SEMATECH να αντιμετωπίσει τις προκλήσεις λιθογραφία EUV.

Πηγή: http://www.sematech.org

Last Update: 9. October 2011 00:14

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit