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Posted in | Nanolithography

SEMATECH, KLA-Tencor Colaboran Para Desarrollar la Tecnología de la Litografía de EUV para la Producción En Masa

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

Por Cameron Chai

KLA-Tencor y SEMATECH declararon ensamblar de KLA-Tencor como pieza en el programa de la Reducción del Defecto de la Litografía de SEMATECH en la Universidad en la Universidad de Albany de la Ciencia de Nanoscale y Dirigir (CNSE).

Como pieza, KLA-Tencor partner con SEMATECH en ciertas áreas tales como identificación y eliminación de las fuentes del defecto utilizando la metrología avance, los procesos de la caracterización y de la imprimibilidad para aumentar el revelado de la fuente de la metrología, infraestructura de la metrología de la máscara y producción entera y adelanto de EUV.

Se utiliza la litografía de EUV es un proceso en el cual una longitud de onda 15 de la fuente cronometra más corto que el de los sistemas existentes de la litografía. Permite el escalamiento de semiconductores a las resoluciones de 10 nanómetro y abajo. Una densidad inferior del defecto se requiere para los métodos sofisticados de la litografía y para introducir tecnología de la litografía de EUV en la producción en masa, que se prevee que sea puesta en marcha para el nodo del mitad-tono de 22 nanómetro en 2012-2013 en los recursos importantes de los productores del circuito integrado.

Para hacer la litografía de EUV lista para la producción de volumen, un esfuerzo riguroso necesita ser tomado en el revelado de la fuente, la infraestructura de la metrología de la máscara, la reducción del defecto, el manufacturability entero y el extendibility.

El Presidente y Director General en KLA-Tencor, Rick Wallace declaró que la colaboración de la prueba de la litografía de KLA-Tencor y de las herramientas avance de la medición con la experiencia de SEMATECH en EUV ofrecerá soluciones críticas a la industria de compañía a los clientes y. La compañía es feliz sobre la colaboración con SEMATECH de diseñar las soluciones avanzadas de la metrología que pueden abordar la identificación básica del defecto y los métodos de la reducción, que son importantes para la infraestructura de EUV, él agregó.

Según el Presidente y Director General en SEMATECH, Dan Armbrust, la colaboración con KLA-Tencor utilizará la capacidad de SEMATECH de abordar los retos de la litografía de EUV.

Fuente: http://www.sematech.org

Last Update: 12. January 2012 13:26

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