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Posted in | Nanolithography

SEMATECH, KLA-Tencor collaborent pour développer la technologie de lithographie EUV pour la production de masse

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

Par Cameron Chai

KLA-Tencor et SEMATECH déclaré la jonction de KLA-Tencor en tant que membre du programme de réduction de la lithographie Défaut de SEMATECH à l'Université d'Albany au Collège de Nanoscale Science and Engineering (CNSE).

En tant que membre, KLA-Tencor en partenariat avec SEMATECH dans certains domaines tels que l'identification et l'élimination des sources de défauts en utilisant des processus avancés de la métrologie, la caractérisation et l'imprimabilité de renforcer le développement de source de la métrologie, de l'infrastructure de métrologie et d'un masque EUV totalité de la production et à l'avancement.

Lithographie EUV est un processus dans lequel une source d'onde 15 fois plus courte que celle des systèmes de lithographie existante est utilisée. Il permet d'échelle de semi-conducteurs à des résolutions de 10 nm et en-dessous. Une densité de défauts faible est nécessaire pour les méthodes de lithographie sophistiqués et pour introduire une technologie lithographie EUV en production de masse, qui devrait être lancé pour les 22-nm noeud demi-pas en 2012-2013 dans les principaux producteurs de circuits intégrés installations.

Pour rendre la lithographie EUV prêt pour la production de volume, un effort rigoureux doit être pris sur le développement de source, l'infrastructure de métrologie masque, la réduction des défauts, de l'industrialisation entière et extensibilité.

Le président et chef de la direction de KLA-Tencor, Rick Wallace a affirmé que la collaboration des tests de KLA-Tencor lithographie de pointe et des outils de mesure avec l'expertise de SEMATECH en EUV va proposer des solutions critiques pour les clients de l'entreprise et l'industrie. La société est heureux de la collaboration avec SEMATECH pour concevoir des solutions de métrologie de pointe qui peut s'attaquer à la base et l'identification des défauts des méthodes de réduction, qui sont importants pour l'infrastructure EUV, at-il ajouté.

Selon le président et chef de la direction SEMATECH, Dan Armbrust, la collaboration avec KLA-Tencor appuiera la capacité SEMATECH pour relever les défis lithographie EUV.

Source: http://www.sematech.org

Last Update: 5. October 2011 18:28

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