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Posted in | Nanolithography

SEMATECH, KLA-Tencor collaboreranno per sviluppare la tecnologia litografia EUV per la produzione di massa

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

Da Cameron Chai

KLA-Tencor e SEMATECH dichiarato l'unione di KLA-Tencor come membro del programma di riduzione dei difetti di SEMATECH litografia presso l'Università di Albany Collegio di Nanoscale Science and Engineering (CNSE).

Come membro, KLA-Tencor collaborerà con SEMATECH in alcune aree come l'identificazione e l'eliminazione delle fonti di difetto utilizzando avanzati processi di metrologia, la caratterizzazione e stampabilità per migliorare la fonte dello sviluppo della metrologia, metrologia infrastrutture maschera e tutta la produzione EUV e l'avanzamento.

Litografia EUV è un processo in cui viene utilizzata una lunghezza d'onda sorgente di 15 volte inferiore a quella dei sistemi di litografia esistenti. Esso consente di scala di semiconduttori a risoluzioni di 10 nm e al di sotto. Una bassa densità dei difetti è necessario per i metodi litografia sofisticati e per introdurre la tecnologia litografia EUV in produzione di massa, che dovrebbe essere lanciato per il 22-nm half-pitch nodo nel 2012-2013 in occasione di importanti strutture integrate produttori circuito.

Per rendere la litografia EUV pronto per la produzione in serie, uno sforzo rigoroso deve essere presa in sviluppo dell'open source, metrologia infrastrutture maschera, riduzione dei difetti, producibilità intero ed estendibilità.

Il Presidente e Chief Executive Officer di KLA-Tencor, Rick Wallace ha dichiarato che la collaborazione di test litografia avanzata KLA-Tencor e gli strumenti di misura con l'esperienza SEMATECH in EUV offrirà soluzioni di importanza critica per i clienti della società e l'industria. La società è felice per la collaborazione con SEMATECH per progettare soluzioni di metrologia avanzate in grado di affrontare l'identificazione di base difetto e metodi di riduzione, che sono importanti per le infrastrutture EUV, ha aggiunto.

Secondo il Presidente e Chief Executive Officer di SEMATECH, Dan Armbrust, la collaborazione con KLA-Tencor sosterrà la capacità SEMATECH per affrontare le sfide litografia EUV.

Fonte: http://www.sematech.org

Last Update: 5. October 2011 23:03

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