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SEMATECH、 KLA-Tencor は大量生産のための EUV の石版印刷の技術を開発するために協力します

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

カメロンシェ著

KLA-Tencor および SEMATECH はアルバニーの Nanoscale 科学の大学で大学で SEMATECH の石版印刷の欠陥の減少プログラムのメンバーとして KLA-Tencor の結合し、設計を宣言しました (CNSE)。

メンバーとして、 KLA-Tencor は欠陥ソースの識別のようなある特定の領域の SEMATECH と度量衡学ソース開発を高めるのに進められた度量衡学の、性格描写および印刷適性プロセスマスクの度量衡学の下部組織および全体の EUV の生産および進歩利用によってそして除去組みます。

EUV の石版印刷はソース波長 15 が短い時間を計るプロセスより既存の石版印刷システムのそれ使用されるです。 それは 10 nm の解像度に半導体の位取りを以下に可能にします。 低い欠陥の密度は洗練された石版印刷方法と主要な集積回路の生産者機能で 2012-2013 年に 22 nm 半ピッチノードのために進水すると期待される大量生産に EUV の石版印刷の技術をもたらすために必要となります。

EUV の石版印刷を大量生産の準備ができたようにするためには、厳密な努力はソース開発、マスクの度量衡学の下部組織、欠陥の減少、全体の manufacturability および extendibility で取られる必要があります。

KLA-Tencor のリックウォーレス、社長兼最高経営責任者は KLA-Tencor の EUV の SEMATECH の専門知識の進められた石版印刷のテストそして測定のツールの共同が会社取引先および工業に重大な解決を提供することを示しました。 会社は基本的な欠陥の識別に取り組むことができ、 EUV の下部組織のために重要の、減少方法高度の度量衡学の解決を設計して SEMATECH の共同について幸せ、彼追加しましたです。

SEMATECH の社長兼最高経営責任者に従って、ダン Armbrust は、 KLA-Tencor の共同 EUV の石版印刷の挑戦に取り組む SEMATECH の能力をサポートします。

ソース: http://www.sematech.org

Last Update: 12. January 2012 13:16

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