Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
Posted in | Nanolithography

SEMATECH, KLA-Tencor werken samen aan EUV-lithografie technologie te ontwikkelen voor massaproductie

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

Door Cameron Chai

KLA-Tencor en SEMATECH verklaarde de bundeling van KLA-Tencor als een lid in de Lithography Defect Reduction programma van SEMATECH van de Universiteit van Albany College van Nanoscale Science and Engineering (CNSE).

Als lid, KLA-Tencor zal samen met SEMATECH in bepaalde gebieden, zoals de identificatie en eliminatie van defect bronnen door gebruik te maken van geavanceerde metrologie, karakterisering en bedrukbaarheid processen metrologie source ontwikkeling, masker metrologie-infrastructuur en de gehele productie EUV en vooruitgang te verbeteren.

EUV-lithografie is een proces waarbij een bron golflengte 15 keer korter dan die van de bestaande lithografie systemen wordt gebruikt. Het maakt schalen van halfgeleiders voor resoluties van 10 nm en lager. Een lage dichtheid defect is vereist voor geavanceerde lithografie methoden en voor de invoering van EUV-lithografie technologie in massaproductie, die naar verwachting worden gelanceerd voor de 22-nm half-pitch knooppunt in 2012-2013 bij de grote geïntegreerde schakeling producenten van faciliteiten.

Om de EUV-lithografie klaar is voor massaproductie, een rigoureuze inspanningen moeten worden genomen over source ontwikkeling, masker metrologie-infrastructuur, gebrek reductie, volledige maakbaarheid en uitbreidbaarheid.

De President en Chief Executive Officer van KLA-Tencor, Rick Wallace verklaarde dat de samenwerking van geavanceerde lithografie het testen van KLA-Tencor en meetinstrumenten met de expertise van SEMATECH's in EUV zal bedrijfskritische oplossingen te bieden aan klanten van het bedrijf en de industrie. Het bedrijf is tevreden over de samenwerking met SEMATECH tot geavanceerde metrologie-oplossingen dat de fundamentele gebrek identificatie en verlaging van methoden, die belangrijk zijn voor EUV-infrastructuur het hoofd kan bieden design, voegde hij eraan toe.

Volgens de president en Chief Executive Officer van SEMATECH, Dan Armbrust, de samenwerking met KLA-Tencor ondersteunt SEMATECH in staat is om de EUV-lithografie uitdagingen aan te gaan.

Bron: http://www.sematech.org

Last Update: 7. October 2011 00:41

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit