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SEMATECH, KLA-Tencor Colaboram Para Desenvolver a Tecnologia da Litografia de EUV para a Produção em Massa

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

Por Cameron Chai

KLA-Tencor e SEMATECH declararam a junta de KLA-Tencor como um membro no programa da Redução do Defeito da Litografia de SEMATECH na Universidade na Faculdade de Albany da Ciência de Nanoscale e o Planejamento (CNSE).

Como um membro, KLA-Tencor partner com o SEMATECH em determinadas áreas tais como a identificação e a eliminação de fontes do defeito utilizando a metrologia avançada, os processos da caracterização e do printability para aumentar a revelação da fonte da metrologia, a infra-estrutura da metrologia da máscara e produção inteira e avanço de EUV.

A litografia de EUV é um processo em que um comprimento de onda 15 da fonte cronometra mais curto do que isso de sistemas existentes da litografia é usada. Permite a escamação dos semicondutores às definições de 10 nanômetro e abaixo. Uma baixa densidade do defeito é exigida para métodos sofisticados da litografia e introduzindo a tecnologia da litografia de EUV na produção em massa, que é esperada ser lançada para o nó do metade-passo de 22 nanômetro em 2012-2013 em facilidades principais dos produtores do circuito integrado.

Para fazer a litografia de EUV pronta para a produção de volume, um esforço rigoroso precisa de ser tomado na revelação da fonte, na infra-estrutura da metrologia da máscara, na redução do defeito, no manufacturability inteiro e no extendibility.

A Presidente E Director-geral em KLA-Tencor, Rick Wallace indicou que a colaboração do teste da litografia de KLA-Tencor e de ferramentas avançados da medida com experiência de SEMATECH em EUV oferecerá soluções críticas aos clientes e à indústria de empresa. A empresa está feliz sobre a colaboração com SEMATECH projectar as soluções avançadas da metrologia que podem abordar a identificação básica do defeito e os métodos da redução, que são importantes para a infra-estrutura de EUV, ele adicionou.

De acordo com a Presidente E Director-geral em SEMATECH, Dan Armbrust, a colaboração com KLA-Tencor apoiará a capacidade de SEMATECH para abordar os desafios da litografia de EUV.

Source: http://www.sematech.org

Last Update: 12. January 2012 13:23

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