Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanolithography

SEMATECH, KLA-Tencor сотрудничать в целях разработки EUV-литографии технологии для массового производства

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

По Камерон Чай

KLA-Tencor и SEMATECH объявил присоединение KLA-Tencor в качестве члена в сокращении Литография Дефект программы SEMATECH университета в колледже Олбани наноразмерных науки и техники (CNSE).

В качестве члена, KLA-Tencor будет сотрудничать с SEMATECH в определенных областях, таких как выявление и устранение дефектов источников за счет использования передовых технологий метрологии, характеристики и печатные для повышения метрологии источником развития, инфраструктуры маски метрологии и все производство EUV и продвижения.

EUV-литография процесс, в котором источником длиной волны в 15 раз короче, чем у существующих систем литографии используется. Это позволяет масштабировать полупроводников с резолюциями 10 нм и ниже. Низкая плотность дефектов требуется для сложных методов литографии и для внедрения EUV-литографии технологии в массовое производство, которое, как ожидается, будет запущен на 22-нм половину шага узла в 2012-2013 годах на крупных производителей интегральных схемах объектов.

Для того, чтобы EUV литографии, готовую к массовому производству, строгий усилия должны быть приняты на источник развития, инфраструктуры маски метрологии, дефект сокращения всей технологичность и расширяемость.

Президент и главный исполнительный директор компании KLA-Tencor, Рик Уоллес заявил, что сотрудничество передовых литографии KLA-Tencor тестирования и средств измерения, имеющих опыт SEMATECH в EUV предложит критических решений для клиентов компании и отрасли. Компания рада сотрудничеству с SEMATECH для разработки передовых решений метрологии, который может решать основные обнаружения дефектов и снижения методы, которые являются важными для EUV-инфраструктуры, добавил он.

По словам президента и главного исполнительного директора в SEMATECH, Дэн Армбруст, сотрудничество с KLA-Tencor будет поддерживать способность SEMATECH к решению проблемы EUV-литографии.

Источник: http://www.sematech.org

Last Update: 5. October 2011 18:29

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit