Posted in | Nanolithography

SEMATECH KLA-Tencor Samarbetar för Att Framkalla EUV-LithographyTeknologi för Samlas Produktion

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

Vid Cameron Chai

KLA-Tencor och SEMATECH förklarade sammanfoga av KLA-Tencor, som en medlem i Lithographyen Hoppar av Förminskningsprogram av SEMATECH på Universitetar på Albanys Högskola av Nanoscale Vetenskap och att Iscensätta (CNSE).

Som en medlem ska KLA-Tencor partnern med SEMATECH i bestämda områden liksom ID, och elimineringen av hoppar av källor, genom att använda avancerad metrology, karakterisering, och printability bearbetar för att förhöja metrologykällutveckling, maskerar metrologyinfrastruktur och den hela EUV-produktionen och befordran.

EUV-lithography är ett processaa i vilka en källvåglängd 15 tajmar kortare, än det av existerande lithographysystem används. Den låter skala av halvledare till upplösningar av 10 nm och nedanfört. En low hoppar av täthet krävs för sofistikerade lithographymetoder, och för introduktion av EUV-lithographyteknologi in i samlas produktionen, som förväntas att lanseras för 22na, den nm-halva-graden som knutpunkten i 2012-2013 på ha som huvudämne inbyggt - går runt producentlättheter.

Att göra EUV-lithographyen att ordna till för volymproduktion, behöver maskerar hoppar av ett rigoröst försök att tas på källutveckling, metrologyinfrastruktur, förminskning, hel manufacturability och extendibility.

Presidenten och Verkställande direktör på KLA-Tencor, Stacken Wallace påstod att samarbetet av KLAs-Tencors avancerat den lithographytesta och mätningen bearbetar med SEMATECHS sakkunskap i EUV ska kritiska lösningar för erbjudande till företags kunder och bransch. Företaget är lyckligt om samarbetet med SEMATECH att planlägga avancerade metrologylösningar som kan tackla det grundläggande hoppar av ID, och förminskningsmetoder, som är viktiga för EUV-infrastruktur, honom tillfogade.

Enligt Presidenten och Verkställande direktör på SEMATECH ska Dan Armbrust, samarbetet med KLA-Tencor kapacitet för service SEMATECHS att tackla EUV-lithographyutmaningarna.

Källa: http://www.sematech.org

Last Update: 27. January 2012 06:12

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit