Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanolithography

SEMATECH聯盟,KLA - Tencor公司合作開發 EUV光刻技術用於大規模生產

Published on June 23, 2011 at 5:38 AM

由Cameron灣仔

KLA - Tencor公司和SEMATECH聯盟宣布加入KLA - Tencor公司作為一個成員在大學納米科學與工程學院(CNSE)的奧爾巴尼學院 SEMATECH聯盟光刻缺陷削減方案。

作為會員,KLA - Tencor公司將與 SEMATECH聯盟的合作夥伴,在某些領域,如識別和消除缺陷來源,利用先進的計量,特性和印刷適性流程,以提高計量源的發展,面罩計量基礎設施和整個 EUV技術的生產和進步。

EUV光刻技術是使用過程中,源波長的15倍,比現有的光刻系統的短。它允許半導體擴展到10納米及以下決議。低缺陷密度是需要複雜的光刻方法和引進 EUV光刻技術投入批量生產,預計將在主要的集成電路生產設施在2012-2013年為 22納米半間距節點推出。

為了使EUV光刻技術量產的準備,嚴格的努力,需要採取源的發展,面具的計量基礎設施,減少缺陷,整個製造和可擴展性。

KLA - Tencor公司主席和行政總裁瑞克華萊士說,KLA - Tencor的先進光刻技術的測試和測量工具與 SEMATECH的EUV技術專長的合作,將公司的客戶和行業提供關鍵的解決方案。他補充說,該公司與 SEMATECH聯盟的合作,以設計先進的計量解決方案,可以解決的基本缺陷識別和減少的方法,這是重要的EUV基礎設施感到高興。

根據 SEMATECH聯盟,丹Armbrust,與 KLA - Tencor的合作主席和行政總裁將支持SEMATECH的解決 EUV光刻挑戰的能力。

來源: http://www.sematech.org

Last Update: 22. October 2011 23:56

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit