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Posted in | Nanoenergy | Nanofabrication

Cambridge NanoTech Stellt Selbst-Zusammengebautes Merkmal der Monomolekularen Schichten vor, um ALD-Anlagen Auszubauen

Published on June 28, 2011 at 2:26 AM

Durch Cameron Chai

Cambridge NanoTech hat die Fähigkeit von selbst-zusammengebauten monomolekularen Schichten vorgestellt (SAMs), um Savannen-AtomSchicht-Absetzungsanlagen (ALD) auszubauen. Sams sind auf den verschiedenen Gebieten wie Elektronik, microelectromechanical Anlagen (MEMS), Biologie, Elektrochemie, nanoelectromechanical Anlagen (NEMS) und Haushaltsprodukten hilfreich.

Diese Vielzweck-, weniger teure Beschichtung wird in einigen Anwendungen wie Chemikalienbeständigkeit, Bio-kompatibilität, Nassmachen- und Beitrittsregelung, molekulare Anerkennung für Fühler und Nano-Fälschung und Sensibilisierung verwendet.

Cambridge NanoTech aktivieren Sams-Beschichtungen auf 100, 200 und 300mm Größenbasis oder kleinerem. Cambridge NanoTech stellt die Abnehmer dar, die Anlagen der Savanne ALD, um auszubauen, mit dem Sams-Merkmal ausgerüstet zu werden haben. Die Kosten des Umfassens des Sams-Merkmals zum Vorherrschen und zu den neuen Savannenanlagen sind wirtschaftlich als eine Absetzungseinheit, die insgesamt auf Sams-Beschichten erhältlich im Markt beruht.

Ganesh Sundaram, Vizepräsident der Technologie gab an, dass Sams die ALD-Gemeinschaft mit Gelegenheiten, ihre Forschung weiter zu erforschen anbietet. Wegen der Fähigkeit des Abgebens von Sams-Filmen und von ALD in einer einzelnen Kammer, Sams, das Technologie beschichtet, übertragen Sie mehr Funktionalitäten, als alle mögliche anderen Beschichtungstechnologien, er hinzufügten.

Cambridge NanoTech zeigt eine Savannenanlage mit Sams-Funktionalität bei der Amerikanischen der Vakuumdas ALD-Konferenz 2011 gesellschaft, beim Königlichen Sonesta, Cambridge, Massachusetts an.

Quelle: http://www.cambridgenanotech.com

Last Update: 12. January 2012 13:49

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