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Posted in | Nanoenergy | Nanofabrication

Cambridge NanoTech lance monocouches auto-assemblées Feature pour moderniser les systèmes ALD

Published on June 28, 2011 at 2:26 AM

Par Cameron Chai

Cambridge NanoTech a introduit la capacité de monocouches auto-assemblées (SAM) dans une tentative de mise à niveau Déposition Savannah couche atomique (ALD) des systèmes. SAM sont utiles dans différents domaines tels que l'électronique, les systèmes micro-électromécaniques (MEMS), la biologie, l'électrochimie, nanosystèmes électromécaniques (NEMS), et les produits ménagers.

Cette polyvalente, revêtement moins coûteux est utilisé dans plusieurs applications telles que la résistance chimique, bio-compatibilité, de mouillage et de contrôle de l'adhérence, la reconnaissance moléculaire pour les capteurs et nano-fabrication, et la sensibilisation.

Cambridge NanoTech permettent revêtements ASSM le 100, 200, et la base de la taille de 300mm ou plus petit. Cambridge NanoTech présente clients ayant Savannah systèmes ALD pour mettre à niveau pour être équipé de la fonctionnalité de SAM. Le coût de la fonction, y compris au SAM qui prévaut et de nouveaux systèmes de Savannah est rentable d'un dispositif de dépôt qui repose entièrement sur le revêtement SAM disponible sur le marché.

Ganesh Sundaram, vice-président de la technologie a déclaré que SAM offre à la communauté ALD des occasions d'explorer leurs recherches plus loin. En raison de la capacité de déposer des films SAM et ALD dans une seule chambre, la technologie de revêtement SAM rendent plus de fonctionnalités que n'importe quel autres technologies de revêtement, at-il ajouté.

Cambridge NanoTech affichera un système à Savannah avec la fonctionnalité SAM à ALD de l'American Vacuum Society en conférence de 2011, au Royal Sonesta, Cambridge, Massachusetts.

Source: http://www.cambridgenanotech.com

Last Update: 3. October 2011 23:37

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