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एप्लाइड मैटेरियल्स अभिनव सिस्टम विकसित करने के लिए घूंट चिप्स के प्रदर्शन में सुधार

कैमरून चाय

एप्लाइड मैटेरियल्स नया अभिनव प्रणाली विकसित की है गतिशील यादृच्छिक अभिगम स्मृति (घूंट) चिप्स 'के प्रदर्शन की नई श्रृंखला में सुधार. एप्लाइड Endura HAR कोबाल्ट PVD प्रणाली, एप्लाइड Endura प्रतिकूल XLR डब्ल्यू PVD प्रणाली, और एप्लाइड Centura DPN HD प्रणाली के रूप में इन प्रणालियों ट्रांजिस्टर और स्मृति चिप्स संपर्क क्षेत्रों के डिजाइन में वृद्धि.

एप्लाइड Centura DPN HD प्रणाली फाटक इन्सुलेटर में नाइट्रोजन परमाणुओं एम्बेड करने के लिए अपने बिजली के गुणों को बढ़ाने के द्वारा ट्रांजिस्टर प्रदर्शन को बेहतर बनाता है. नई उच्च खुराक (HD) विधि एप्लाइड मूल decoupled प्लाज्मा nitridation (DPN) तकनीक है कि स्मृति उपकरणों और उन्नत तर्क के उत्पादन में प्रयोग किया जाता है सुधार. यह chipmakers के पक्ष में बेहतर प्रदर्शन के साथ ट्रांजिस्टर आयाम को कम.

एप्लाइड Endura प्रतिकूल XLR डब्ल्यू PVD प्रणाली एप्लाइड मानक टंगस्टन भौतिक वाष्प जमाव (PVD) तकनीक का उपयोग करता है फाटक के लगभग 20% द्वारा प्रतिरोधकता ढेर कमी. यह फाटक स्केलिंग के लिए आवश्यक गति स्विचन में सुधार. इसकी उन्नत रिएक्टर डिजाइन काफी महत्वपूर्ण उपभोज्य भागों के जीवन अवधि बढ़ जाती है, 10% से लागत - प्रति - वफ़र कम.

ट्रांजिस्टर संपर्क धातुरूप करने के लिए, नई एप्लाइड Endura कोबाल्ट PVD प्रणाली कम प्रतिरोधकता कोबाल्ट के साथ हमेशा की तरह टाइटेनियम की जगह, क्रम में करने के लिए उत्पादन की गारंटी करने के लिए स्विचन गति में सुधार और बिजली की खपत को कम विधि प्रदान. कोबाल्ट PVD में एप्लाइड ज्ञान है कि उच्च पहलू अनुपात संपर्क संरचनाओं में लगातार फिल्मों जमा करने के लिए लागू किया जाता है प्रणाली को बढ़ाता है, 50% से संपर्क प्रतिरोध के टाइटेनियम से तुलना में कम सक्षम करने.

आदेश में घूंट चिप्स और माइक्रोप्रोसेसरों के बीच प्रदर्शन को कम करने के लिए, घूंट chipmakers तर्क उपकरणों में सुधार से बेहतर ट्रांजिस्टर प्रौद्योगिकियों का उपयोग करने के लिए ट्रांजिस्टर के घनत्व विस्तार, तेजी से और अधिक परिष्कृत नियंत्रण circuitry के विकास को सक्षम.

स्रोत: http://www.appliedmaterials.com

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