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Os Materiais Aplicados Desenvolvem Sistemas Inovativos Para Melhorar o Desempenho de Microplaquetas de GOLE

Por Cameron Chai

Os Materiais Aplicados desenvolveram sistemas inovativos novos para melhorar sua nova série do desempenho de acesso aleatório dos chip de memória (DRAM) Dinâmicos. Estes sistemas tais como o sistema Aplicado do Cobalto PVD de Endura HAR, o sistema Aplicado de Endura Versa XLR W PVD, e o sistema Aplicado de Centura DPN HD aumentam o projecto de áreas de contacto do transistor e dos chip de memória.

O sistema Aplicado de Centura DPN HD melhora o desempenho do transistor encaixando átomos do nitrogênio no isolador da porta para aumentar suas propriedades elétricas. O método novo (HD) da alto-dose melhora original Aplicado a tecnologia decuplada do nitridation (DPN) do plasma que é usada na produção de dispositivos de memória e de lógica avançada. Isto favorece fabricantes de chips para reduzir dimensões do transistor com melhor desempenho.

Os usos Aplicados do sistema de Endura Versa XLR W PVD Aplicaram a tecnologia física do depósito de vapor do tungstênio (PVD) padrão à resistividade da pilha da diminuição da porta por quase 20%. Isto melhora a velocidade de interruptor necessária para a escamação da porta. Seu projecto do reactor avançado aumenta consideravelmente a esperança de vida das peças consumíveis vitais, diminuindo a custo-por-bolacha por 10%.

Para a metalização do contacto do transistor, o sistema Aplicado novo do Cobalto PVD de Endura substitui o titânio usual com o cobalto da menos-resistividade, a fim fornecer um método da produção-garantia para melhorar a velocidade de interruptor e reduzir o potência-consumo. O sistema aumenta conhecimento Aplicado no cobalto PVD que é aplicado para depositar filmes consistentes em estruturas altas do contacto da aspecto-relação, permitindo a redução da resistência de contacto por 50% comparado àquele do titânio.

A fim reduzir o desempenho entre microplaquetas de GOLE e microprocessadores, os fabricantes de chips da GOLE utilizaram melhores tecnologias do transistor dos dispositivos de lógica melhorados para ampliar a densidade do transistor, permitindo a revelação de uns circuitos mais rápidos e mais refinados do controle.

Source: http://www.appliedmaterials.com

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