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Posted in | Lab on a Chip

應用的材料開發創新系統改進動態隨機存儲器芯片性能

Published on July 8, 2011 at 3:06 AM

卡梅倫柴

應用的材料開發新的創新系統改進動態隨機存儲器籌碼其新系列 (DRAM)』性能。 這些系統例如應用的 Endura HAR 鈷 PVD 系統、應用的 Endura Versa XLR W PVD 系統和應用的 Centura DPN HD 系統提高晶體管和存儲芯片』聯繫範圍設計。

應用的 Centura DPN HD 系統經過埋置氮氣原子到門裝绝緣體工提高其電子屬性改進晶體管性能。 新的高劑量 (HD)方法改進應用的原來的 (DPN)用於存儲設備和提前的邏輯的生產的被分離的等離子 nitridation 技術。 這支持芯片製造商減少與更好的性能的晶體管維數。

應用的 Endura Versa XLR W PVD 系統用途適用標準鎢實際蒸氣噴鍍 (PVD)技術於減少門棧抵抗力接近 20%。 這改進交換速度必要為門比例縮放。 其先進的反應器設計顯著地增加重要可消耗的零件壽命,越來越少的費用每薄酥餅 10%。

对晶體管聯絡金屬化,新的應用的 Endura 鈷 PVD 系統用少抵抗力鈷替換通常銀灰色,為了提供生產保證方法改進交換速度和減少電源衝減。 這個系統提高在應用存款在高方面比例聯絡結構的一致的影片的鈷 PVD 的應用的知識,啟用降低接觸電阻 50% 與那銀灰色比較。

為了減少在動態隨機存儲器芯片和微處理器之間的性能,微量芯片製造商使用從改進的邏輯裝置的更好的晶體管技術擴大密度晶體管,啟用更加快速和被精煉的控制電路的發展。

來源: http://www.appliedmaterials.com

Last Update: 26. January 2012 21:32

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