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Del Mundo Películas Finas del Oro Primero - Producidas Usando Tecnología de PEALD

Published on July 10, 2011 at 7:39 PM

Picosun Oy, fabricante global Finlandia-Basado de equipo Atómico avanzado de la Deposición (ALD) de la Capa, señala el proceso acertado para la preparación de las películas finas del oro con primera vez plasma-aumentada del método de ALD (PEALD) en el mundo. Las películas del Oro fueron crecidas en el reactor del SUNALE ALD de Picosun equipado del sistema de la fuente del plasma de Picoplasma de la misma compañía encima de underlayers del rutenio, de las substancias químicas del precursor desarrolladas y sintetizadas por el estudiante Jason Coyle de Profesor Sean Barry y del Ph.D. de la Universidad de Carleton, Ottawa, Canadá.

Picosun ha trabajado con el precursor y el revelado de proceso con la Universidad de Carleton también antes. Las películas De Cobre de la calidad y de la uniformidad excelentes se han depositado encima de underlayers del Estaño y en los fulminantes del foso del silicio, en la parte inferior de fosos del 1:15 de la relación de aspecto. Por Otra Parte, las películas finas de plata de alta calidad se han fabricado con éxito en un reactor de Picosun SUNALE de los precursores desarrollados en la Universidad de Helsinki, Finlandia.

La Producción de ultrafino, metal altamente uniforme y conformal filma incluso en las altas estructuras de la relación de aspecto tales como Por-Silicio-Vias (TSV) y otras configuraciones del nanoscale 3D están llegando a ser cruciales en la fabricación de hoy de la electrónica. Pues las tallas componentes guardan el disminuir pero al mismo tiempo, el nivel de integración de sistema que aumenta, deposición del metal por ALD es el único método con el cual las capas y los puntos de contacto conductores pueden ser manufacturados en la nanómetro-escala modelada, 3D-integrated, dispositivos modernos altamente complejos de MEMS/NEMS (Micrófono/NanoElectroMechanical).

Los “metales de la Invención (Cu, AG, Au) se contrapesan para desempeñar un papel importante también en detectar tecnologías, donde estarán cruciales en el aumento de la señal y como superficies del ancla para los elementos que detectan orgánicos. Usando plasma depositar estos metales como proceso de ALD ensancha drástico la ventana de la temperatura de la deposición, permiso el empleo de los substratos sensibles tales como filamentos y los plásticos modificados de la fibra óptica. El diseño de la herramienta de Picoplasma permite uniformidad excelente sobre un área amplia de la deposición, mientras que disminuye daño del substrato de la fuente del plasma”, Profesor Barry de los estados de la Universidad de Carleton.

La fuente alejada “ión-libre” de Picoplasma, la innovadora y del revolucionario de Picosun del plasma acaba de ser puesta en marcha recientemente al mercado y ha sido un éxito enorme desde el principio, ya siendo elegido por varios clientes dominantes en tres continentes.

Picosun Oy es fabricante global Finlandia-Basado de sistemas avanzados de ALD para las aplicaciones micras y de la nanotecnología, representando continuidad durante a tres décadas de diseño del reactor de ALD y de fabricación dedicados, exclusivos. Picosun se basa en Espoo, Finlandia, sus instalaciones de producción está situado en Kirkkonummi, Finlandia, y sus comandancias de los E.E.U.U. en Detroit, Michigan. Las herramientas del proceso del SUNALE ALD de Picosun están en uso diario en diversos universidades del nivel superior, institutos de investigación y compañías del alto nivel a través de cuatro continentes. Picosun Oy es una parte de Stephen Industries Inc. Oy.

Last Update: 12. January 2012 11:02

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