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Posted in | Nanomaterials

Pellicole Sottili dell'Oro Primo del Mondo Prodotte Facendo Uso di Tecnologia di PEALD

Published on July 10, 2011 at 7:39 PM

Picosun Oy, a produttore globale Basato a finlandia della strumentazione Atomica avanzata del Deposito (ALD) del Livello, riferisce il riuscito procedimento per il preparato delle pellicole sottili dell'oro con prima volta plasma-migliorata di metodo di ALD (PEALD) nel mondo. Le pellicole dell'Oro si sono sviluppate in reattore del SUNALE ALD di Picosun fornito del sistema di sorgente del plasma del Picoplasma della stessa società sopra i underlayers del rutenio, dai prodotti chimici del precursore sviluppati e sintetizzati dallo studente Jason Coyle di Prof. Sean Barry e di Ph.D. dalla Carleton University, Ottawa, Canada.

Picosun ha funzionato con il precursore e lo sviluppo trattato con la Carleton University egualmente prima. Le pellicole Di Rame di qualità e dell'uniformità eccellenti sono state depositate sopra i underlayers dello Stagno e sui wafer della fossa del silicio, sul fondo delle fosse del 1:15 di allungamento. Inoltre, le pellicole sottili d'argento di alta qualità sono state con successo fabbricate in un reattore di Picosun SUNALE dai precursori sviluppati all'Università di Helsinki, Finlandia.

La Produzione di ultrasottile, metallo altamente costante e conforme filma anche sulle alte strutture di allungamento quale Attraverso-Silicio-Vias (TSV) ed altre architetture del nanoscale 3D sta diventando cruciali nell'odierna fabbricazione di elettronica. Poichè le dimensioni componenti continuano diminuire ma allo stesso tempo, il livello di integrazione di sistema che aumenta, il deposito del metallo da ALD è il solo metodo con cui i livelli ed i punti di contatto conduttivi possono essere fabbricati sul nanometro-disgaggio modellato, 3D-integrated, unità moderne altamente complesse di MEMS/NEMS (Micro/NanoElectroMechanical).

“I metalli di Invenzione (Cu, AG, Au) sono sospesi svolgere un ruolo significativo anche nella percezione delle tecnologie, dove saranno cruciali nel potenziamento del segnale e come superfici dell'ancora per gli elementi sensibili organici. Facendo Uso di plasma depositare questi metalli come trattamento di ALD allarga drasticamente la finestra della temperatura del deposito, permettendo l'occupazione di tali substrati sensibili come i filamenti e la plastica a fibra ottica modificati. La progettazione dello strumento di Picoplasma tiene conto l'uniformità eccellente sopra un'ampia area del deposito, mentre minimizza il danno del substrato dalla sorgente del plasma„, Prof. Barry degli stati dalla Carleton University.

La sorgente remota “senza ione„ innovatrice e rivoluzionaria del Picoplasma di Picosun, del plasma recentemente è stata lanciata appena al servizio ed è stato un successo enorme dall'inizio, già essendo scegliendo da parecchi clienti chiave su tre continenti.

Picosun Oy è ad un produttore globale Basato a finlandia dei sistemi avanzati di ALD per le applicazioni di nanotecnologia e micro-, rappresentanti la continuità oltre a tre decadi di progettazione del reattore di ALD e di fabbricazione dedicate e esclusive. Picosun è basato su Espoo, Finlandia, le sue installazioni produttive è situato Kirkkonummi, in Finlandia e le sue sedi degli STATI UNITI a Detroit, Michigan. Gli strumenti di trattamento del SUNALE ALD di Picosun sono nell'uso quotidiano in vari università del livello superiore, istituti di ricerca e società di profilo alto attraverso quattro continenti. Picosun Oy è una parte di Stephen le Industries Inc. Oy.

Last Update: 12. January 2012 11:25

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