Posted in | Nanomaterials

Wereld Eerst - Gouden Dunne Geproduceerde Films Gebruikend Technologie PEALD

Published on July 10, 2011 at 7:39 PM

Picosun Oy, in Finland-Gebaseerde globale fabrikant van apparatuur van het Deposito van de overzichts de Atoom (ALD)Laag, meldt succesvol proces voor voorbereiding van gouden dunne films met plasma-verbeterde ALD de methode eerste keer (van PEALD) in de wereld. De Gouden die films werden in de reactor ALD gekweekt van SUNALE van Picosun met het het plasma dievan Bron Picoplasma van het zelfde bedrijf systeem bovenop rutheniumunderlayers wordt, van voorloperchemische producten door Prof. de student Barry en Ph.D. Jason Coyle van Sean van Carleton Universiteit, Ottawa, Canada worden ontwikkeld uitgerust en worden samengesteld.

Picosun heeft met voorloper en procesontwikkeling met Universiteit Carleton ook voordien gewerkt. De films van het Koper van uitstekende kwaliteit en uniformiteit zijn gedeponeerd bovenop underlayers van het Tin en op de wafeltjes van de siliciumgeul, op de bodem van geulen van aspectverhouding 1:15. Voorts hoog - zijn de kwaliteits die zilveren dunne films met succes in een reactor van Picosun SUNALE van voorlopers vervaardigd bij de Universiteit van Helsinki, Finland worden ontwikkeld.

De Productie van uiterst dunne, hoogst eenvormige en conforme metaalfilms zelfs op hoge aspectverhouding structuren zoals door-silicium-Vias (TSV) en andere 3D nanoscalearchitectuur wordt essentieel in elektronika productie de van vandaag. Aangezien de componentengrootte houdt het verminderen maar tezelfdertijd is het niveau dat van systeemintegratie stijgt, metaaldeposito met ALD de enige methode waarmee de geleidende lagen en de contactpunten op de gevormde NM-schaal kunnen worden vervaardigd, 3D-geïntegreerde, hoogst complexe moderne (Micro/NanoElectroMechanical) apparaten MEMS/NEMS.

De „metalen van het Munten (Cu, Ag, Au) zijn in evenwicht gehouden om een significante rol ook te spelen in het ontdekken van technologieën, waar zij in signaalverhoging en als ankeroppervlakten voor organische ontdekkende elementen essentieel zullen zijn. Het Gebruiken van plasma om deze metalen als proces te deponeren ALD verwijdt drastisch het venster van de depositotemperatuur, toelatend de werkgelegenheid van dergelijke gevoelige substraten zoals gewijzigde vezel optische gloeidraden en plastieken. Het ontwerp van het hulpmiddel Picoplasma staat voor uitstekende uniformiteit over een breed depositogebied, terwijl het minimaliseren van substraatschade uit de plasmabron“, staten toe Prof. Barry van Universiteit Carleton.

Innovatieve en revolutionaire „ionen-vrije“ verre plasmabron van Picosun de van Picoplasma, werd enkel onlangs gelanceerd aan de markt en het is vanaf het begin een reusachtig succes geweest, reeds wordt gekozen door verscheidene zeer belangrijke klanten op drie continenten.

Picosun Oy is een in Finland-Gebaseerde globale fabrikant van overzichtsALD systemen voor micro- en nanotechnologietoepassingen, die continuïteit vertegenwoordigen aan meer dan drie decennia van specifiek, exclusief ALD reactorontwerp en productie. Picosun is gebaseerd in Espoo, Finland, worden zijn productiefaciliteiten gevestigd in Kirkkonummi, Finland, en zijn hoofdkwartier van de V.S. in Detroit, Michigan. De het proceshulpmiddelen van SUNALE van Picosun ALD zijn in dagelijks gebruik in diverse hoogste niveauuniversiteiten, onderzoekinstituten en hoge profielbedrijven over vier continenten. Picosun Oy is een deel van Stephen Industries Inc. Oy.

Last Update: 12. January 2012 11:20

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit