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Posted in | Nanomaterials

Do Mundo Filmes Finos do Ouro Primeiramente - Produzidos Usando a Tecnologia de PEALD

Published on July 10, 2011 at 7:39 PM

Picosun Oy, fabricante global Finlandia-Baseado do equipamento Atômico avançado do Depósito (ALD) da Camada, relata o processo bem sucedido para a preparação de filmes finos do ouro com vez plasma-aumentada do método de ALD (PEALD) primeira no mundo. Os filmes do Ouro foram crescidos no reactor do SUNALE ALD de Picosun equipado com o sistema da fonte do plasma do Picoplasma da mesma empresa sobre underlayers do ruténio, dos produtos químicos do precursor desenvolvidos e sintetizados pelo estudante Jason Coyle do Prof. Sean Barry e do Ph.D. da Universidade de Carleton, Ottawa, Canadá.

Picosun trabalhou com precursor e revelação de processo com Universidade de Carleton igualmente antes. Os filmes De Cobre da qualidade e da uniformidade excelentes foram depositados sobre underlayers do Estanho e em bolachas da trincheira do silicone, na parte inferior das trincheiras do 1:15 do prolongamento. Além Disso, os filmes finos de prata de alta qualidade foram com sucesso manufacturados em um reactor de Picosun SUNALE dos precursores desenvolvidos na Universidade de Helsínquia, Finlandia.

A Produção de ultra-fino, metal altamente uniforme e constituído filma mesmo em estruturas altas do prolongamento tais como o Através-Silicone-Vias (TSV) e outras arquiteturas do nanoscale 3D estão tornando-se cruciais na fabricação de hoje da eletrônica. Porque os tamanhos componentes se mantêm diminuir mas ao mesmo tempo, o nível de integração de sistemas que aumenta, depósito do metal por ALD é o único método com que as camadas e os pontos de contacto condutores podem ser manufacturados na nanômetro-escala modelada, 3D-integrated, dispositivos modernos altamente complexos de MEMS/NEMS (Micro/NanoElectroMechanical).

Da “os metais Cunhagem (Cu, AG, Au) poised para jogar igualmente um papel significativo em detectar as tecnologias, onde serão cruciais no realce do sinal e como a âncora surge para elementos de detecção orgânicos. Usar o plasma para depositar estes metais como um processo de ALD alarga dràstica o indicador da temperatura do depósito, permitindo o emprego de carcaças sensíveis como filamentos e plásticos alterados da fibra óptica. O projecto da ferramenta de Picoplasma permite a uniformidade excelente sobre uma área larga do depósito, ao minimizar dano da carcaça da fonte do plasma”, Prof. Barry dos estados da Universidade de Carleton.

A fonte remota “íon-livre” do Picoplasma, a inovativa e do revolucionário de Picosun do plasma foi lançada apenas recentemente ao mercado e foi um sucesso enorme desde o começo, já sendo escolhido por diversos clientes chaves em três continentes.

Picosun Oy é um fabricante global Finlandia-Baseado dos sistemas avançados de ALD para aplicações micro e da nanotecnologia, representando a continuidade sobre a três décadas de projecto do reactor de ALD e de fabricação dedicados, exclusivos. Picosun é baseado em Espoo, Finlandia, suas instalações de produção é ficado situado em Kirkkonummi, em Finlandia, e em suas matrizes dos E.U. em Detroit, Michigan. As ferramentas do processo do SUNALE ALD de Picosun estão no uso diário em vários universidades do nível superior, institutos de investigação e empresas do alto nível através de quatro continentes. Picosun Oy é uma parte de Stephen Indústrias Inc. Oy.

Last Update: 12. January 2012 11:34

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