Posted in | Nanomaterials

Мира Фильмы Золота Сперва - Тонкие Произведенные Используя Технологию PEALD

Published on July 10, 2011 at 7:39 PM

Picosun Oy, Финляндия-Основанное глобальное изготовление современного Атомного оборудования Низложения (ALD) Слоя, сообщает успешный процесс для подготовки фильмов золота тонких с плазм-увеличенным первым разом метода ALD (PEALD) в мире. Фильмы Золота рослись в реакторе SUNALE ALD Picosun оборудованном с системой источника плазмы Picoplasma такой же компании na górze underlayers рутения, от химикатов прекурсора начатых и синтезированных студентом Джейсоном Coyle Prof. Шон Барри и Ph.D. от Университета Carleton, Оттава, Канада.

Picosun работало с прекурсором и отростчатым развитием с Университетом Carleton также раньше. Медные фильмы превосходных качества и единообразия были депозированы na górze underlayers Олова и на вафлях шанца кремния, на дне шанцов 1:15 коэффициента сжатия. Сверх Того, высокомарочные серебряные тонкие фильмы успешно были изготовлены в реакторе Picosun SUNALE от прекурсоров начатых на Университете Хельсинки, Финляндии.

Продукция ультратонкого, сильно равномерный и конформный металл снимает даже на высоких структурах коэффициента сжатия как Через-Кремний-Vias (TSV) и другие зодчеств nanoscale 3D будут критическими в сегодняшнем изготавливании электроники. По Мере Того Как компонентные размеры держат уменьшить но в тоже время, уровень внедрения системы увеличивая, низложение металла ALD единственный метод с которым проводные слои и точки соприкосновения могут быть изготовлены на сделанном по образцу nm-маштабе, 3D-integrated, сильно сложные самомоднейшие приборы MEMS/NEMS (Micro/NanoElectroMechanical).

«Металлы Чеканки (Cu, Ag, Au) poised для того чтобы сыграть значительно роль также в воспринимать технологии, где они будут критические в повышении сигнала и как поверхности анкера для органических чувствительных элементов. Используя плазму депозировать эти металлы как процесс ALD расширяет drastically окно температуры низложения, позволяющ занятость таких чувствительных субстратов как доработанные нити и пластмассы оптического волокна. Конструкция инструмента Picoplasma позволяет для превосходного единообразия над широкой зоной низложения, пока уменьшающ повреждение субстрата от источника плазмы», Prof. Барри положений от Университета Carleton.

Источник Picoplasma, новаторских и революционера Picosun «ион-свободный» дистанционный плазмы как раз недавно был запущен к рынку и огромное право успеха от старта, уже выбираемо несколькими ключевых клиентов на 3 материках.

Picosun Oy Финляндия-Основанное глобальное изготовление современных систем ALD для применений микро- и нанотехнологии, представляя непрерывность до над 3 декады преданных, исключительных конструкции реактора ALD и изготовлять. Picosun основано в Espoo, Финляндии, свои производственные объекты расположено в Kirkkonummi, Финляндии, и своих штабах в Детройте, Мичигане США. Инструменты процесса SUNALE ALD Picosun в ежедневной пользе в различных университетах высшего уровня, научно-исследовательских институтах и высоко-профильных компаниях через 4 материка. Picosun Oy часть Стефана Индустрий Inc. Oy.

Last Update: 12. January 2012 11:36

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit