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使用 PEALD 技术被生产的世界最初的金薄膜

Published on July 10, 2011 at 7:39 PM

Picosun Oy,科技目前进步水平基本层证言设备基于芬兰的全球制造商 (ALD),报告金薄膜的准备的成功的进程与等离子改进的 ALD (PEALD) 方法第一次的在这个世界上。 金影片在 Picosun 的用同一家公司的 Picoplasma 等离子来源系统装备的 SUNALE ALD 反应器增长在钌衬层顶部,从夏恩巴里教授和 Ph.D 学员开发和综合的前体化学制品从卡尔顿大学的贾森 Coyle,渥太华,加拿大。

Picosun 也与前体和工艺过程开发一起使用与卡尔顿大学以前。 非常好的质量和均一铜影片存款在罐子衬层顶部和在硅沟槽薄酥饼,在长宽比 1:15 沟槽底层。 而且,优质银色薄膜在从前体的一台 Picosun SUNALE 反应器顺利地被制造了被开发在赫尔辛基,芬兰大学。

生产超薄,高度统一和保形金属甚而在高长宽比结构摄制例如通过硅Vias (TSV),并且其他 3D nanoscale 结构变得关键在今天电子制造中。 因为组件范围继续减少,但是同时,增加系统综合化的级别,由 ALD 的金属证言是导电性层和联系人地点可以是制作的在被仿造的这个 nm 缩放比例的唯一的方法, 3D 集成,高度复杂现代 MEMS/NEMS (微小/NanoElectroMechanical) 设备。

“造币金属 (古芝, Ag,澳大利亚) 保持平衡也扮演重大的作用在感觉技术,他们将是关键的在信号改进和作为有机传感元件的锚点表面。 使用等离子存款这些金属作为 ALD 进程激烈地加宽证言温度视窗,允许雇佣的这样敏感基体象被修改的光纤细丝和塑料。 Picoplasma 工具的设计允许在一宽证言区的非常好的均一,当使从等离子来源的基体故障减到最小”,从卡尔顿大学时的状态巴里教授。

Picosun 的 Picoplasma,创新和革命 “离子自由的”远程等离子来源最近被生成了对这个市场,并且它是巨大的成功从开始,已经被选择由三个大陆的几个关键客户。

Picosun Oy 是科技目前进步水平 ALD 系统一个基于芬兰的全球制造商微型和纳米技术应用的,表示连续性对超出三十年专用,独有 ALD 反应器设计和制造。 Picosun 在 Espoo,芬兰根据,其生产设施位于 Kirkkonummi、芬兰和其美国总部在底特律,密执安。 Picosun 的 SUNALE ALD 进程工具在每日使用以多种最高级大学、研究所和鲜明的姿态公司在四个大陆间。 Picosun Oy 是 Stephen Industries Inc. Oy 的部分。

Last Update: 12. January 2012 11:18

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