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使用 PEALD 技術被生產的世界最初的金薄膜

Published on July 10, 2011 at 7:39 PM

Picosun Oy,科技目前進步水平基本層證言設備基於芬蘭的全球製造商 (ALD),報告金薄膜的準備的成功的進程與等離子改進的 ALD (PEALD) 方法第一次的在這個世界上。 金影片在 Picosun 的用同一家公司的 Picoplasma 等離子來源系統裝備的 SUNALE ALD 反應器增長在釕襯層頂部,從夏恩巴里教授和 Ph.D 學員開發和綜合的前體化學製品從卡爾頓大學的賈森 Coyle,渥太華,加拿大。

Picosun 也與前體和工藝過程開發一起使用與卡爾頓大學以前。 非常好的質量和均一銅影片存款在罐子襯層頂部和在硅溝槽薄酥餅,在長寬比 1:15 溝槽底層。 而且,優質銀色薄膜在從前體的一臺 Picosun SUNALE 反應器順利地被製造了被開發在赫爾辛基,芬蘭大學。

生產超薄,高度統一和保形金屬甚而在高長寬比結構攝製例如通過硅Vias (TSV),并且其他 3D nanoscale 結構變得關鍵在今天電子製造中。 因為組件範圍繼續減少,但是同時,增加系統綜合化的級別,由 ALD 的金屬證言是導電性層和聯繫人地點可以是製作的在被仿造的這個 nm 縮放比例的唯一的方法, 3D 集成,高度複雜現代 MEMS/NEMS (微小/NanoElectroMechanical) 設備。

「造幣金屬 (古芝, Ag,澳大利亞) 保持平衡也扮演重大的作用在感覺技術,他們將是關鍵的在信號改進和作為有機傳感元件的錨點表面。 使用等離子存款這些金屬作為 ALD 進程激烈地加寬證言溫度視窗,允許雇佣的這樣敏感基體像被修改的光纖細絲和塑料。 Picoplasma 工具的設計允許在一寬證言區的非常好的均一,當使從等離子來源的基體故障減到最小」,從卡爾頓大學時的狀態巴里教授。

Picosun 的 Picoplasma,創新和革命 「離子自由的」遠程等離子來源最近被生成了對這個市場,并且它是巨大的成功從開始,已經被選擇由三個大陸的幾個關鍵客戶。

Picosun Oy 是科技目前進步水平 ALD 系統一個基於芬蘭的全球製造商微型和納米技術應用的,表示連續性對超出三十年專用,獨有 ALD 反應器設計和製造。 Picosun 在 Espoo,芬蘭根據,其生產設施位於 Kirkkonummi、芬蘭和其美國總部在底特律,密執安。 Picosun 的 SUNALE ALD 進程工具在每日使用以多種最高級大學、研究所和鮮明的姿態公司在四個大陸間。 Picosun Oy 是 Stephen Industries Inc. Oy 的部分。

Last Update: 26. January 2012 21:32

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