Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
Posted in | Nanoelectronics

Imec en Suss MicroTec aan de Integriteit van het Masker van de Studie EUV

Published on July 11, 2011 at 9:28 PM

Imec kondigde vandaag aan dat het zijn onderzoeksprogramma met SUSS MicroTec heeft verbreed om te ontwikkelen in-fab-binnen naderbij komt aan EUV (Extreme Ultraviolet) maskerintegriteit. De uitgebreide samenwerking bouwt op het succes van de masker het schoonmaken processen van verslag (POR)samenwerking voort tussen HamaTech AAP Gmbh & Co. KG, een volledige dochteronderneming van SUSS MicroTec, en imec, die in 2009 begon.

Dit verbrede werkingsgebied van onderzoek zal concentreren op maskernetheid tijdens in-fab-zichbinnen vervoer en opslag. De Ontwikkeling van een holistic systeem van het maskerbeheer zal partners gebruikend EUV lithografie, een verfijnde benadering van de integriteits vroeger-aan-blootstelling van het domeinmasker verstrekken.

De Efficiency van de Verwijdering van het Deeltje (PRE) van het achtereind van een (alpha- manifestatiehulpmiddel) dradenkruis ADT van zelfs 80%.

In Tegenstelling Tot photomasks die in optische lithografie vandaag wordt gebruikt, zullen de maskers EUV niet de bescherming van een pellicle hebben, die het maakt voor deeltje en organische verontreiniging gevoelig. Een hogere het schoonmaken frequentie zal worden vereist om het risico van wafeltjeverlies en opbrengstverlies van verontreiniging van de gevormde kant van het masker te verlichten. Nochtans, van stijgend belang is verontreiniging op het achtereind van het masker dat, indien geïntroduceerd in de scanner, naar de dradenkruisklem kon overbrengen veroorzakend ernstige bekledingskwesties. Om de dradenkruisklem schoon te maken zou de scanner uitgebreide onderbreking aan aanzienlijke kosten aan de halfgeleiders fabrikant vereisen.

tijdens vorig jaar, imec masker het schoonmaken bereikte het programma significante mijlpalen in de ontwikkeling van processen van verslag (PORs) voor masker EUV het schoonmaken, gebruikend het SUSS MaskTrack Prophotomask schoonmakende systeem, dat in de schone ruimte van imec 300mm in 2009 werd geïnstalleerd. Ontwikkelde PORs is efficiënt in het verwijderen van de verontreiniging van belang, nog zijn zacht genoeg om herhaaldelijk worden toegepast zonder maskerleven te verminderen. Het Onderzoek en de optimalisering van EUV dradenkruisachtereind het schoonmaken processen, die niet de voor-kant beïnvloeden, werden ontwikkeld en aangetoond om bekleding te houden bereikten de prestaties van de scanner EUV in Spec. Imec een Efficiency van de Verwijdering van het Deeltje (PRE) van het achtereind van een (alpha- manifestatiehulpmiddel) dradenkruis ADT van zelfs 80%. Om a PRE van 100% te bereiken moeten wij artefacten vermijden die door behandeling, vervoer en opslag worden veroorzaakt. Daarom is een gecontroleerd milieu van het maskerbeheer noodzakelijk van de tijd het masker fab door het volledige leven van het masker ingaat. Precies is deze verzekering de belangrijkste trekker want ons verbreed onderzoekwerkingsgebied naar totaal geautomatiseerde behandeling voor onlangs geïnstalleerde nxe-3100 die SUSS MaskTrack ProInSync (InSync) gebruiken in-fab-binnen beheerssysteem maskeert.

InSync wordt ontworpen om de striktste EUV de vereisten vroeger-aan-blootstelling van de maskerintegriteit te ontmoeten. Exclusieve InSync verstrekt een hoogst gecontroleerd milieu om maskers EUV die in [en uit] de dubbele peul automatisch over te brengen, het risico van verontreiniging van hand behandeling en overdracht elimineren. De kritieke binnenpeul kan binnen van het milieu worden opgeslagen InSync. Functionerend als loadport, kan InSync een dradenkruis dubbele peul van de scanner voor overdracht aan het Pro schoonmakende hulpmiddel direct goedkeuren MaskTrack. InSync zal de stichting voor verdere ontwikkeling van de infrastructuur van de maskerintegriteit bij imec verstrekken.

Kurt Ronse, programmadirecteur ging lithografie bij imec bovengenoemd, „Ons doel om een infrastructuur te verstrekken vooruit EUV die een masker zonder gebreken bij punt-van-blootstelling, niet is veranderd levert. Voortbouwend op onze belangrijke vooruitgang bij masker het schoonmaken, zijn wij opgewekt om het werkingsgebied van ons onderzoek uit te breiden om een holistic systeem van het maskerbeheer te leveren. De installatie van MaskTrack ProInSync en onze aan de gang zijnde samenwerkingsonderzoeksinspanningen met SUSS Microtech verstrekt een team van wereldklasse en de middelen concentreerden zich op maskerintegriteit voor de vordering van technologie EUV.“

„Wij zijn zeer pleased om onze samenwerking met imec op een EUV infrastructuur van de maskerintegriteit voor volgende generatielithografie voort te zetten,“ bovengenoemde Frank P. Averdung, Voorzitter en CEO van SUSS MicroTec AG. „MaskTrack ProInSync, is het enige beschikbare systeem van het maskerbeheer dat automatisch met de unieke dubbele peul EUV in een volledig-gecontroleerd milieu kan omzetten. Ontworpen aan het schoonmaken, de overdracht en de opslag van het clusterEUV masker in een oorspronkelijk milieu, verstrekt InSync een holistic benadering van maskerbeheer door het leven van het masker.“

Last Update: 12. January 2012 16:16

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit