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IMEC和SUSS MicroTec公司研究EUV掩模完整性

Published on July 11, 2011 at 9:28 PM

IMEC今天宣布,它已扩大其与SUSS MicroTec公司的研究项目,开发在工厂方法EUV(极端紫外线)面具的完整性。扩展合作的基础上面膜清洗记录(POR)HamaTech超支GMBH&Co。KG的,SUSS MicroTec公司的全资附属公司,与IMEC,在2009年开始之间的合作进程的成功。

本研究范围的扩大,将重点放在清洁面膜- FAB在运输和储存期间。整体屏蔽管理系统的发展将提供使用EUV光刻技术,成熟的方法来保护面具的完整性之前曝光的合作伙伴。

颗粒去除效率(PRE)一个ADT(阿尔法演示工具)光罩高达80%的背面。

不像今天使用的光掩膜光刻技术,EUV技术口罩将薄膜的保护,使得敏感粒子和有机污染。将需要更高的清洗频率,以减轻晶圆损失和污染的面具图案的一面产量损失的风险。但是,背面的面具,如果引入到扫描仪,可以转移到十字丝钳,造成了严重的覆盖问题上的污染越来越多的关注。要清洁光罩钳,扫描仪将需要在一个相当大的成本的半导体制造商的广泛停机。

在过去的一年中,IMEC的面具清洁计划达到具有里程碑意义的进展,在发展过程的记录(PORS)EUV掩模清洗使用MaskTrack临SUSS的光罩清洗系统,这是2009年在IMEC的300mm的洁净室安装在。开发PORS有效地消除利益的污染,还柔情似水的反复应用不降低掩模寿命。调查和优化的EUV光罩背面的清洗工艺,不影响前端,开发并展示保持在规范的EUV扫描仪的覆盖性能。 IMEC的一个ADT(阿尔法演示工具)光罩高达80%的背面实现了颗粒去除效率(PRE)。要达到100%的预,我们需要避免装卸,运输和储存造成的工件。因此,受控面具的管理环境是从时间的面具进入整个工厂的整个生命周期的面具必要的。正是这样的保证,是我们实现完全自动化的处理研究范围扩大的最近使用SUSS MaskTrack临InSync(InSync)的晶圆厂光罩管理系统安装NXE - 3100的主要触发。

InSync是专为满足最严格的EUV掩模完整性的要求前曝光。独家InSync提供了一个高度控制的环境中,自动传送到[和]双荚EUV技术口罩,省去了人工处理和转移污染的风险。关键的内部吊舱可以存放在里面的InSync环境。作为一个loadport运作,InSync可以接受一个光罩双荚,直接从扫描仪转移到MaskTrack专业清洁工具。 InSync将提供在IMEC的面具完整的基础设施的进一步发展奠定基础。

库尔特龙瑟,IMEC先进的光刻技术项目主任说,“我们的目标是提供的EUV基础设施,提供一个无缺陷的面具,在接触点并没有改变。面膜清洁的重要进展的基础上,我们很高兴能扩大我们的研究范围,以提供全面的面具管理系统。MaskTrack临InSync和我们正在进行的合作研究工作与SUSS的Microtech的安装提供了一个世界级的团队和面具的完整性EUV技术的进步为重点的资源“。

P. Averdung,SUSS MicroTec公司股份公司总裁兼首席执行官“弗兰克说:”我们非常高兴能够继续我们的一条EUV掩模下一代光刻技术的完整的基础设施与IMEC的合作,。 “MaskTrack临InSync,是唯一面具管理系统,可以自动接口,在一个完全控制的环境中独特的EUV双荚。设计集群EUV掩模清洗,传输和储存在一个纯净的环境,InSync提供了一个全面的方法整个生活的面具来掩盖管理。“

Last Update: 3. October 2011 01:58

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