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Posted in | Nanofabrication

首先 SUSS MicroTec 生成整体很好的 EUVL 屏蔽管理系统

Published on July 13, 2011 at 8:48 PM

今天 SUSS MicroTec,设备和进程解决方法的全球供应商半导体行业和相关市场的,生成了其新的 MaskTrack 赞成 InSync - 第一整体很好 EUVL 屏蔽管理提供。 MTP InSync 是无缝同步屏蔽清洁,处理,检验和存贮在一个单一控制环境里的一个独立或成群的操作系统。 当输入 EUVL 扫描程序的真空环境时, MTP InSync 在维护理想的屏蔽完整性的零的微粒政权运行。

“EUV 石版印刷在屏蔽完整性安置极大的需求在点风险”,弗兰克 P. Averdung, SUSS AG MicroTec 的总裁兼 CEO 说。 “仅 MaskTrack 赞成 InSync,提供必要的技术达到零的微粒屏蔽管理环境,使芯片制造商利用重要石版印刷扫描程序可用性。 此科技目前进步水平屏蔽管理系统设立我们持续的承诺对提供我们的客户以屏蔽完整性基础设施为下一代石版印刷”。

MaskTrack 赞成 InSync 是仅第一个和屏蔽管理系统可用 在一个充分控制环境里可能协调直接地与特定 EUV 双重荚的市场上。 在一个原始环境里设计使屏蔽清洁、屏蔽重要内在荚的调用和存贮成群,以及微粒检测系统和内在荚清洁, MTP InSync 的选项综合化提供一个统一的途径给屏蔽管理在屏蔽的寿命中。 MTP InSync 的设计允许双重荚的直接调用从扫描程序到 MaskTrack 赞成调制盘清洁工具。

第一个 MTP InSync 的发运对 imec 的在比利时在 2011年 8月预定。

Last Update: 12. January 2012 16:14

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