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Posted in | Nanofabrication

首先 SUSS MicroTec 生成整體很好的 EUVL 屏蔽管理系統

Published on July 13, 2011 at 8:48 PM

今天 SUSS MicroTec,設備和進程解決方法的全球供應商半導體行業和相關市場的,生成了其新的 MaskTrack 讚成 InSync - 第一整體很好 EUVL 屏蔽管理提供。 MTP InSync 是無縫同步屏蔽清潔,處理,檢驗和存貯在一個單一控制環境裡的一個獨立或成群的操作系統。 當輸入 EUVL 掃描程序的真空環境時, MTP InSync 在維護理想的屏蔽完整性的零的微粒政權運行。

「EUV 石版印刷在屏蔽完整性安置極大的需求在點風險」,弗蘭克 P. Averdung, SUSS AG MicroTec 的總裁兼 CEO 說。 「仅 MaskTrack 讚成 InSync,提供必要的技術達到零的微粒屏蔽管理環境,使芯片製造商利用重要石版印刷掃描程序可用性。 此科技目前進步水平屏蔽管理系統設立我們持續的承諾對提供我們的客戶以屏蔽完整性基礎設施為下一代石版印刷」。

MaskTrack 讚成 InSync 是仅第一个和屏蔽管理系統可用 在一個充分控制環境裡可能協調直接地與特定 EUV 雙重莢的市場上。 在一個原始環境裡設計使屏蔽清潔、屏蔽重要內在莢的調用和存貯成群,以及微粒檢測系統和內在莢清潔, MTP InSync 的選項綜合化提供一個統一的途徑給屏蔽管理在屏蔽的壽命中。 MTP InSync 的設計允許雙重莢的直接調用從掃描程序到 MaskTrack 讚成調制盤清潔工具。

第一个 MTP InSync 的發運對 imec 的在比利時在 2011年 8月預定。

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