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Posted in | Microscopy

FEI の進水世界の最も適用範囲が広い DualBeam システム

Published on August 8, 2011 at 9:59 AM

FEI の会社 (NASDAQ: FEIC)、研究および企業のアプリケーションに電子顕微鏡システムを提供している一流の器械使用の会社今日サンプルタイプの広い範囲で高解像の、三次元 (3D) イメージ投射および分析を提供する Versa 新しい 3D DualBeam システムのリリースを発表しました。

Versa 3D's の非常に設定可能なプラットホームは顧客が特定の条件にシステム・ケイパビリティを適応させることを可能にします。

FEI Versa 3D DualBeam システム

「Versa 3D の柔軟な設定いろいろ材料を調査する今日の研究者の要求に」、は言いました FEI の研究の事業体の Trisha の米、副大統領および総務部長を応じます。 研究者に最も挑戦的なサンプルからの情報を与えるために 「イオンビームおよび電子ビームの技術の FEI の開拓のリーダーシップおよび方法はよく一致します。 去年、 FEI は最新の世代別 Helios NanoLab、工業一流の電子およびイオンビームの技術を組み込む、今日私達は最も適用範囲が広い DualBeam、 Versa 3D の」。ベールを取っています世界の高リゾリューションの DualBeam をもたらし

Versa 3D は高い真空だけまたは高低の真空の電子イメージ投射ハードウェアと使用できます。 低い真空の電子イメージ投射機能はシステムが高真空操作に対応しない汚染するか、またはガス放出のサンプルを取り扱うようにします。 低い真空はまたエネルギー分散 (X 線) 分光学 (EDS) および電子後方散乱の回折 (EBSD) のような分析の技術に、必要な高い流れで非伝導性のサンプルの料金の蓄積を補正する機能を提供します。

ショットキーフィールド放出電子ビームの Versa 3D のコンバイン FEI のリーダーシップおよび 3D 性格描写および分析のための新しい標準、伝達電子顕微鏡および原子のプローブのためのサイト特定のサンプル修正および高度のサンプル準備をセットする DualBeam 設定可能なシステムへの高いスループット (TEMs)イオンビームの技術。 高性能プラットホームはまた FEI のそのままの分析のための印象的で低い真空の機能そして環境のスキャンの電子顕微鏡検査と (ESEM)設定することができます。 スキャンする高度 SEM および他愛ない嘘の模造の収穫強力なイメージ投射および製粉パフォーマンス。 新しい機能は、 FEI の SmartSCAN およびドリフトによって訂正されるフレームの統合のような (DCFI)、異なった特性の範囲が付いているサンプルタイプの電子ビームイメージ投射を促進します。 高度の backscattered 電子、また二次電子およびイオン探知器は、集めますあらゆる角度からのいろいろ地勢の、元素および合成情報を 「」。

AutoSlice 及び眺め最新の G3 のの組合せはソフトウェアオプション、多目的な電子イメージ投射ハードウェアおよび高いスループットイオンコラムは研究者がイオンおよび電子の料金のバランスをとる機能を生かすことを可能にします。 (肯定的なイオンと) およびイメージ投射製粉またはドリフトの抑制は伝導性両方および非導電サンプルの 3D 電気でシリアルスライス、イメージ投射および分析のオートメーションに (電子と) 一義的な共同作用を提供します。 か EBSD、 3D の元素マップか結晶学のオリエンテーションデータを再建するのに EDS3 および EBS3 また EDS と結合されたときソフトウェアオプションが使用することができます。

Versa 3D は材料の研究、生命科学、電子工学および geosciences の多様な必要性に対応します。 それはすぐに命令のために使用できます。 より多くの情報のために、 http://www.fei.com/versa3d を訪問して下さい

Last Update: 12. January 2012 15:47

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