Posted in | Microscopy

FEI 生成世界的最靈活的 DualBeam 系統

Published on August 8, 2011 at 9:59 AM

FEI 公司 (那斯達克: FEIC),提供電子顯微鏡系統的一家主導的手段公司為在研究和行業的應用,今天宣佈了其新的 Versa 3D DualBeam 系統版本,在各種各樣的範例類型提供高分辨率,三維 (3D) 想像和分析。

Versa 3D's 高度可配置平臺允許客戶適應系統能力他們的特定需求。

FEI Versa 3D DualBeam 系統

「Versa 3D 的靈活配置適應學習各種各樣的材料今天研究員的需要」,說 Trisha 米、副總統和 FEI 的研究營業單位的總經理。 「在離子束和電子束技術的 FEI 的作早期工作在的領導和方法是搭配得不錯的提供研究員從甚而最富挑戰性的範例的信息。 去年, FEI 在合併領先業界的電子和離子束技術的世界上引入最新的生成 Helios NanoLab,最高分辨率的 DualBeam,并且我們今天揭幕最靈活的 DualBeam, Versa 3D」。

Versa 3D 對任一個高真空或到處真空電子想像硬件是可用的。 低真空電子想像功能允許這個系統適應與高真空運算是不兼容的沾染或除氣作用範例。 低真空也提供這個能力補嘗在非導電性範例的充電組合甚而在對於分析技術是必需的高當前,例如能源分散性 (X-射線) 分光學 (EDS) 和電子背景散射的衍射 (EBSD)。

Versa 3D 聯合收穫機 FEI 的領導在肖特基場致發射電子束和高處理量離子束技術到一個可配置 DualBeam 系統裡,設置 3D 描述特性和分析的一個新的標準,站點特定範例修改和先進的範例準備的傳輸電子顯微鏡 (TEMs)和原子探測。 高性能平臺可能也配置以 FEI 的印象深刻的低真空功能和甚而環境掃描電子顯微鏡術 (ESEM)在原處分析的。 瀏覽先進的 SEM 和小謊仿造的產量強大的想像和碾碎的性能。 新的功能,例如 FEI 的 SmartSCAN 和漂移校正的框架綜合化 (DCFI),實現範例類型電子束想像與不同的屬性的範圍的。 先進的 backscattered 電子,以及二次電子和離子探測器,收集各種各樣的地形學,基本和作文信息 「從每個角度」。

最新的 AutoSlice & 圖 G3 的組合軟件選擇,多才多藝的電子想像硬件和高處理量離子列使研究員利用離子和電子的充電平衡的功能。 碾碎 (與正離子) 和想像或偏差抑制 (與電子) 為 3D 導電性對的兩個和绝緣的範例的電子序列切,想像和分析的自動化提供一種唯一共同作用。 當與 EDS 結合或 EBSD、 EDS3 和 EBS3 軟件選擇可能也用於重建基本映射或晶體取向數據在 3D。

Versa 3D 處理在材料研究、生命科學、電子和 geosciences 的不同的需要。 它為立即預定是可用的。 對於更多信息,请請參觀 http://www.fei.com/versa3d

Last Update: 26. January 2012 23:02

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit