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Posted in | Microscopy

Bruker lança Dimension Borda PSS AFM para Medição Wafer

Published on August 17, 2011 at 2:53 AM

Por Cameron Chai

Um fornecedor de soluções científicas e instrumentos para a investigação molecular e materiais, Bruker introduziu o PSS Borda Dimension microscópio de força atômica (AFM) para padrões substrato de safira (PSS) de medição, a fim de fabricar produtos de alta luminosidade diodo emissor de luz (HB-LED) .

Dimensão PSS Edge com AUTOMET software e 9 chuck wafer

O PSS Borda Dimension é um ambiente de produção, um fácil de usar AFM projetado especificamente para a entrega de resoluções melhor do que técnicas convencionais de óptica, bem como oferecer dados precisos tridimensional perfil para lidar com processos PSS sofisticados. O sistema executa a geração de relatórios automatizados para fora, análise de dados, coleta de informações e medição em 2-6 "wafers para aplicações em metrologia produção. Além disso, melhora a AFM características necessárias para LED R & D.

O sistema está disponível em combinação com o software Bruker AUTOMET pacote concebido especialmente para atender às exigências de fabricação de HB-LED produtores. É possível configurar o software para permitir a medição de 1-9 bolachas em vários pontos de cada wafer. Também em grande parte melhora o rendimento de fabricação, permitindo a análise de dados automatizado e geração de relatórios, oferecendo dados de medição para o engenheiro e um indicador de falha / pass para o operador técnico.

Mark R. Munch, Presidente Bruker Superfícies Nano Divisão declarou que os fabricantes de HB-LED estão buscando tecnologia de PSS para melhorar os processos de produção crítica ea Dimensão Borda PSS AFM é útil no monitoramento desses processos reforçada. Agilizar a resolução inigualável do sistema, precisão e medição oferece um feedback processo rápido, acrescentou.

David V. Rossi, vice-presidente e gerente geral da AFM Bruker de Negócios, afirmou que com o lançamento do PSS Borda Dimension, a empresa continua a ilustrar a sua dedicação para melhorar o desempenho e AFM pedido de ambos os ambientes de produção e pesquisador.

Fonte: http://www.bruker-axs.com/

Last Update: 6. October 2011 12:47

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