Het Nieuwe EUV Geavanceerde Dradenkruis Etst Systeem Overwint Hindernissen Verbonden aan Lithografie EUV

Published on September 19, 2011 at 8:11 PM

De Toegepaste Materialen, Inc. gingen vandaag het overzicht in photomasktechnologie met vooruit zijn nieuw Toegepast Geavanceerd Dradenkruis van Centura TetraTM EUV Etsen systeem.

Overwinnend een belangrijke hindernis aan de goedkeuring van lithografie EUV, lost het nieuwe Tetrasysteem EUV de kritieke en unmet uitdaging van het etsen van nieuwe EUVL photomasks met nanometer-vlakke nauwkeurigheid en de tekortprestaties van wereldklasse op om de vervaardiging van veelvoudige nieuwe generaties van krachtige halfgeleiderspaanders toe te laten.

„Ons nieuw Tetrasysteem EUV breidt de mogelijkheden van Toegepaste industrie-standaard Tetra uit etst platform, dat door de grote meerderheid van gevorderde maskermakers vandaag wordt gebruikt,“ bovengenoemde Ajay Kumar, Etsen de ondervoorzitter en de algemene manager van het Masker en TSV productafdeling bij Toegepaste Materialen. „Van Toepassing Geweest blijft in technologieën investeren die zijn belangrijk voor onze klanten en de knopen van het volgende-generatieontwerp zullen toelaten. Wij hebben reeds veelvoudige systemen verscheept en wij werken nauw met vrijwel elke belangrijke maskermaker om samen de halfgeleiderindustrie te helpen deze significante technologieverbuiging aanpassen.“

EUVL photomasks is fundamenteel verschillend dan conventionele photomasks die 193nm selectief golflengtelicht aan de patronen van de projectkring op het wafeltje overbrengen. Bij de 13.5nm golflengte door EUVL wordt gebruikt, zijn alle photomaskmaterialen ondoorzichtig, zodat bevat het masker complexe multi-layer spiegels om krings op patronen op het wafeltje in plaats daarvan te wijzen dat. Het Tetrasysteem EUV wordt ontworpen om nieuwe materialen te etsen en die de complexe laagstapels om de stringente patroonnauwkeurigheid, oppervlakte te ontmoeten eindigen en defectivityspecificaties worden vereist om hoge lithografieopbrengsten te bereiken wanneer het werken op deze weerspiegelde wijze.

Het Tetrasysteem EUV maakt deel uit van de Toegepaste uitvoerige portefeuille van Materialen van oplossingen om de productiviteit en de opbrengst van zijn klanten photomask en lithografieverrichtingen te optimaliseren. Het systeem wordt gesteund door de Toegepaste Globale Diensten, de uitvoerigste dienst van de industrie en het steunnetwerk, om systeem te maximaliseren uptime - een essentiële prioriteit voor masker etst hulpmiddelen. Voor meer informatie over de Toegepaste lithografie-toelatende oplossingen van Materialen, bezoek www.appliedmaterials.com/advanced-litho.

Last Update: 11. January 2012 05:54

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit