O Sistema Avançado EUV Novo Gravura Em Àgua Forte do Retículo Supera os Obstáculos Associados com a Litografia de EUV

Published on September 19, 2011 at 8:11 PM

Aplicado Materiais, Inc. avançaram hoje o último modelo na tecnologia do photomask com seu sistema Avançado EUV Aplicado novo Gravura Em Àgua Forte do Retículo de Centura TetraTM.

Superando um obstáculo principal à adopção da litografia de EUV, o sistema Tetra novo de EUV resolve o desafio crítico e não satisfeita de gravar os photomasks novos de EUVL com desempenho do defeito da precisão e da mundo-classe do nanômetro-nível para permitir a fabricação de novas gerações múltiplas de microplaquetas de capacidade elevada do semicondutor.

“Nosso sistema Tetra novo de EUV expande as capacidades de padrão do sector que Aplicado a plataforma Tetra gravura em àgua forte, que é usada pela grande maioria de fabricantes avançados da máscara hoje,” disse Ajay Kumar, de vice-presidente e do director geral da divisão de produto da Máscara e Gravura Em Àgua Forte de TSV em Materiais Aplicados. “Aplicou-se continua a investir nas tecnologias que são importantes para nossos clientes e permitirão nós do projecto da próxima geração. Nós temos enviado já sistemas múltiplos e nós estamos trabalhando pròxima com virtualmente cada fabricante principal da máscara para ajudar a indústria do semicondutor a acomodar esta inflexão significativa da tecnologia.”

Os photomasks de EUVL são fundamental diferentes do que os photomasks convencionais que transmitem selectivamente a luz do comprimento de onda 193nm aos testes padrões do circuito do projecto na bolacha. No comprimento de onda 13.5nm usado por EUVL, todos os materiais do photomask são opacos, assim que a máscara contem espelhos complexos da multi-camada para reflectir pelo contrário testes padrões do circuito na bolacha. O sistema Tetra de EUV é projectado gravar materiais novos e pilhas complexas da camada para encontrar a precisão do teste padrão, o revestimento da superfície e as especificações estritos do defectivity exigidos para conseguir rendimentos altos da litografia ao operar-se neste modo refletido.

O sistema Tetra de EUV é parte da carteira detalhada dos Materiais Aplicados das soluções para aperfeiçoar a produtividade e o rendimento do photomask dos seus clientes e das operações da litografia. O sistema é apoiado por Serviços Globais Aplicados, pela rede de assistência e apoio a mais detalhada da indústria, para maximizar o uptime do sistema - uma prioridade vital para ferramentas gravura em àgua forte da máscara. Para obter mais informações sobre das soluções depossibilidade dos Materiais Aplicados, visita www.appliedmaterials.com/advanced-litho.

Last Update: 11. January 2012 06:08

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