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Posted in | Nanomaterials

El Semiconductor de Altis Logra la Estandarización en la Habitación de la Síntesis del Retículo y del Fulminante de Candence MaskCompose

Published on September 23, 2011 at 7:25 AM

Por Cameron Chai

El Semiconductor Europeo de Altis de la fundición ha logrado la estandarización en Síntesis del Fulminante de Candence MaskCompose del Sistema de Diseño de Candence y Sistema del Retículo.

La estandarización simplificará el proceso de la fabricación del silicio con la automatización de todos los pasos de progresión importantes en la síntesis del fulminante y la fase del retículo. La estandarización también ayudará en la documentación de las máscaras de la foto y de los planes de pasos del fulminante que son costosos y que implican una gran cantidad de datos.

El Semiconductor de Altis ha estado probando las diversas soluciones para la optimización de su proceso. Eligió la Cadencia MaskCompose debido a su capacidad de proporcionar al plan del fulminante, bastidores exactos, genera la cubierta de trabajo, modifica la documentación y formularios de orden para requisitos particulares. Según el Vicepresidente, las Ventas y el márketing de Karl Lange para Altis, el sistema de la automatización de MaskCompose ha aumentado los niveles de la eficiencia de la compañía y el tiempo llevados para producir volúmenes grandes.

Este sistema también ayuda en reducir los riesgos implicados en la máscara-fabricación y aumenta la época de producción para los diseños de circuito de fabricación en granes cantidades, retículos acodados multi, retículos y fulminantes para diversos proyectos. Aparte de usar el MaskCompose, Altis ha desplegado al Virtuoso flujo de encargo analogico unificado y tiene conjunto de proceso también diseñado del diseño basado en la HABILIDAD que se solicitará su flujo de la producción. Candence utiliza su propio software, IP y soporte físico para el diseño y la verificación de semiconductores, equipo de la telecomunicación y de red, los productos electrónicos de consumo y los sistemas informáticos.

Fuente: http://www.cadence.com/

Last Update: 12. January 2012 13:26

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