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Il Semiconduttore di Altis Raggiunge la Normalizzazione sulla Serie della Sintesi del Reticolo e del Wafer di Candence MaskCompose

Published on September 23, 2011 at 7:25 AM

Da Cameron Chai

Il Semiconduttore Europeo di Altis della fonderia ha raggiunto la normalizzazione sulla Sintesi del Wafer del Candence MaskCompose del Sistema di Progettazione di Candence e sul Sistema del Reticolo.

La normalizzazione semplificherà il trattamento di fabbricazione del silicio con l'automazione di tutti i punti importanti nella sintesi del wafer e nella fase del reticolo. La normalizzazione egualmente aiuterà nella documentazione le maschere della foto e delle disposizioni passo passo del wafer che sono costose e che comprendono un gran numero di dati.

Il Semiconduttore di Altis sta verificando le varie soluzioni ad ottimizzazione del suo trattamento. Ha scelto la Cadenza MaskCompose dovuto la sua capacità di fornire la disposizione del wafer, fotogrammi accurati, genera la piattaforma di processo, personalizza la documentazione ed i buoni d'ordine. Secondo il Vicepresidente, le Vendite e l'introduzione sul mercato di Karl Lange per Altis, il sistema di automazione di MaskCompose ha aumentato i livelli del risparmio di temi della società ed il tempo occors per produrre i grandi volumi.

Questo sistema egualmente aiuta nella diminuzione dei rischi in questione nella maschera-fabbricazione ed aumenta il momento di produzione per le progettazioni di circuito fabbricanti in grandi quantità, multi reticoli stratificati, reticoli e wafer per i progetti differenti. Oltre a usando il MaskCompose, Altis ha spiegato il Virtuoso flusso su ordinazione analogico unificato ed ha kit trattata anche progettato di progettazione basato su ABILITÀ da fare domanda per il suo flusso di produzione. Candence usa il sui propri software, IP e hardware per la progettazione e la verifica dei semiconduttori, attrezzature di rete e della telecomunicazione, prodotti elettronici di consumo e sistemi informatici.

Sorgente: http://www.cadence.com/

Last Update: 12. January 2012 13:50

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