Posted in | Nanoelectronics

Oxford-Instrument-Anwesender EröffnungsPreis für Bestes MSC-Projekt in der Nanotechnologie

Published on September 27, 2011 at 7:35 PM

Oxford-Instrumente werden erfreut, um anzukündigen, dass Adnan Mehonic die Empfänger unseres ersten Oxford-Instrument-Plasma-Technologiepreises für das Beste MSC-Projekt in der Nanotechnologie an UCL ist, betitelt „Aktuelle Verkehrsuntersuchungen von Silikon nanoclusters“.

L bis R: Adnan Mehonic, MSC empfängt seinen Preis für Bestes MSC-Projekt in der Nanotechnologie an UCL von Michael Stokeley, EMEA-Verkaufsleiter, Oxford-Instrument-Plasma-Technologie

Das Projekt, überwacht von Dr. Tony Kenyon, nachgeforschte Metall-Oxidhalbleiter (MOS) Einheiten, die Silikon nanoclusters enthalten, lackierte mit Erbiumionen, und analysiert und behandelt der Leitungsvorrichtung, deren Verständnis für weitere Entwicklung von Silikon-basierten photonics Einheiten wesentlich ist.

Professor Richard Jackman, Direktor des MSC-Programms in der Nanotechnologie an der Abteilung der Elektronischen und Elektrotechnik u. der London-Mitte für Nanotechnologie kommentierte, „Wir wurden mit dem hohen Kaliber unserer MSC-Projekte letztes Jahr erfreut, aber Adnans Arbeit und Auswirkungen auf „Aktuelle Verkehrsuntersuchungen von Silikon nanoclusters“ wurden das Beste in seinem Jahr beurteilt“. Dr. hinzugefügter Kenyon, „die Arbeit ergab die Patentierung eines Widerstrebenden Schaltelements Memristor, und Adnan arbeitet jetzt an einem Doktor an UCL, um diese Forschung zu fördern. Wir freuen uns, seine Arbeit beschlossen zu haben, um den Preis zu gewinnen.“

Mike Cooke, Leitender Technologie-Beamter für Oxford-Instrument-Plasma-Technologie sagte, „Wie eine Firma, die wir darauf abzielen, verantwortliche Entwicklung und tieferes Verständnis der Welt durch Wissenschaft u. Technologie auszuüben, und wir werden erfreut, um einen Preis zu unterstützen, der hervorragende Leistungen von Nachwuchswissenschaftlern auf dem Gebiet der Nanotechnologieforschung erkennen und fördern soll.“

Über Oxford-Instrument-Plasma-Technologie

Oxford-Instrument-Plasma-Technologie bietet die flexiblen, konfigurierbaren Prozesshilfsmittel und die führenden Prozesse für die genaue, kontrollierbare und wiederholbare Technik von mikro- und von Nano-zellen an. Unsere Anlagen stellen Prozesslösungen für nmschichtepitaxie des Verbindungshalbleitermaterials, die Ätzung von nm sortierten Merkmalen und das esteuerte Wachstum von nanostructures zur Verfügung. Diese Lösungen basieren auf Kerntechnologien in Plasma-erhöhter Absetzung und Ätzung, Ionenbündelabsetzung und -ätzung, Atomschichtabsetzung und Hydriddampfphasenepitaxie. Produktpalette von den kompakten unabhängigen Anlagen für R&D, durch Stapelhilfsmittel und bis zu gebündelten Kassette-zukassette Plattformen für das Hochdurchsatz Produktionsaufbereiten.

Last Update: 12. January 2012 13:12

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit