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Posted in | Nanoelectronics

Premio Inaugurale Attuale degli Strumenti di Oxford per il Migliore Progetto del MSc in Nanotecnologia

Published on September 27, 2011 at 7:35 PM

Gli Strumenti di Oxford sono deliziati per annunciare che Adnan Mehonic è il destinatario del nostro primo premio della Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford per il Migliore Progetto del MSc in Nanotecnologia a UCL, intitolato “studi Correnti del trasporto dei nanoclusters del silicio„.

L - R: Adnan Mehonic, MSc riceve il suo Premio per il Migliore Progetto del MSc in nanotecnologia a UCL da Michael Stokeley, Capo Vendite di EMEA, la Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford

Il progetto, sorvegliato dal Dott. Tony Kenyon, unità esaminarici (MOS) del metallo-ossido-semiconduttore che contengono i nanoclusters del silicio ha verniciato con gli ioni dell'erbio ed analizzato e discusso il meccanismo della conduzione di cui la comprensione è essenziale per ulteriore sviluppo alle delle unità basate a silicio di fotonica.

Il Professor Richard Jackman, Direttore del programma del MSc in Nanotecnologia al Dipartimento di Ingegneria Elettrica Elettronica e & del Centro di Londra per Nanotecnologia ha commentato, “Eravamo deliziati l'anno scorso con l'alto calibro dei nostri progetti del MSc, ma il lavoro ed i risultati di Adnan “sugli studi Correnti del trasporto dei nanoclusters del silicio„ sono stati giudicati il meglio durante il suo anno„. Il Dott. Kenyon aggiunto, “Il lavoro ha provocato il brevetto dell'Unità Resistente di Commutazione di Memristor e Adnan ora sta lavorando ad un PhD a UCL per avanzare questa ricerca. Siamo soddisfatti di scegliere il suo lavoro per estrarre il premio.„

Mike Cooke, Ufficiale Principale della Tecnologia per la Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford ha detto, “Come una società che miriamo a perseguire lo sviluppo responsabile e la comprensione più profonda del mondo con Scienza & la Tecnologia e siamo deliziati per supportare un premio progettato per riconoscere e promuovere i risultati eccezionali di giovani scienziati nel campo di ricerca in nanotecnologia.„

Circa Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford

La Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford offre gli strumenti trattati flessibili e configurabili ed i trattamenti avanzati per l'assistenza tecnica precisa, controllabile e ripetibile di micro- e delle nano-strutture. I Nostri sistemi forniscono le soluzioni trattate per la crescita epitassiale del livello di nanometro del materiale a semiconduttore composto, incidere delle funzionalità graduate nanometro e la crescita controllata dei nanostructures. Queste soluzioni sono basate sulle tecnologie di base nel deposito plasma-migliorato ed incissione all'acquaforte, il deposito ed incissione all'acquaforte del fascio ionico, il deposito atomico del livello ed epitassia di fase di vapore dell'idruro. Gamma di Prodotti dai sistemi autonomi compatti per R & S, tramite gli strumenti in lotti e fino alle piattaforme ragruppate del caricatore 35mm--caricatore 35mm per processo di produzione di alto-capacità di lavorazione.

Last Update: 12. January 2012 13:14

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