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Posted in | Nanolithography

Sematech Kündigt Lautsprecher der Hauptleitungs-Drei für Internationale Lithographie-Symposien 2011 an

Published on September 29, 2011 at 7:42 AM

Durch Cameron Chai

Globales Chip-Hersteller-Konsortium Sematech hat angekündigt, dass Dr. Jia Li von NVIDIA der Volllautsprecher für die 2011 Internationalen Symposien auf Extremen Ultravioletten Extensionen der Lithographie-(EUVL) und der Lithographie ist. Es kündigte auch an, dass Dr. Han-ku Cho von Samsung Electronics und Risto Puhakka von VLSI die Hauptredner am Symposium ist.

Das Ereignis wird in Miami vom 17. bis 21. Oktober geleitet. Während das EUVL-Symposium durch Sematech in Partnerschaft mit IMEC und EIDEC geleitet wird, wird das Lithographie-Extensionssymposium von der Firma gemeinsam mit imec organisiert.

Dr. Jia Li, der der Direktor der Wafergießereioperationen bei NVIDIA ist, spricht am 17. Oktober über das Thema „Umwandeln Auslegungen zu den Chips mit Sub-20nm Technologien“. Dr. Li hat in 20 Jahren Erfahrung in den Bereichen von SRAM, von D-RAM, Silikon von Prozess-R&D und von Herstellung von Chips. Er hat vorher mit Firmen wie Bell-Labors, Sony, Maxime Integrierte Produkte, WaferTech und SGS-Thomson-Mikroelektronik in Verwaltungs- und in den technischen Leistungen gearbeitet. Aktuell wertet er das 20 nm und 14 Verfahrenstechniken nm zusammen mit seinem Team aus.

Dr. Han-ku Cho, der der Vizepräsident und der Kopf des Fotomasken-Teams bei Samsung Electronics ist, spricht am 19. Oktober über das Thema „EUV-Bereitschaft und Leistung ASML NXE3100“. Dr. Cho hat mehr als 16 Jahre Erfahrung in den Bereichen der Fotomaske und der Lithographie. Er war auch der Führer eines Regierungsprogramms in Korea auf EUV-Lithographie für neun Jahre.

Herr Risto Puhakka, Präsident, VLSI-Forschung spricht am 20. Oktober über das Thema, „das Geschäft der VermarktungsInnovation“. Zur Zeit handhabt er nicht nur, Beratungsdienste für VLSI aber stellt auch Analyse und Rat zu allen führenden Chip-Herstellern, zu Finanzierungsgesellschaften und zu Regierungsinstanzen zur Verfügung.

Quelle: http://www.sematech.org

Last Update: 12. January 2012 13:12

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