Posted in | Nanolithography

SEMATECH julkisti kolme keskeisintä Kaiuttimet International Litografia Symposia 2011

Published on September 29, 2011 at 7:42 AM

Cameron Chai

Global piirin valmistajan yhteenliittymä SEMATECH on ilmoittanut, että tohtori Jian Li NVIDIA tulee täysistunnon kaiutin 2011 International symposiumeja Extreme Ultraviolet Litografia (EUVL) ja litografia Extensions. Se ilmoitti myös, että tohtori Han-ku Cho Samsung Electronics ja Risto Puhakka VLSI on pääpuhujista symposiumissa.

Tapahtuma järjestetään Miami 17-21 10. Vaikka EUVL symposiumin on parhaillaan tehdään SEMATECH yhteistyössä IMEC ja EIDEC, Litografia Extension Symposiumin järjestävät yritys yhteistyössä IMEC.

Tohtori Jia Li kuka on johtaja kiekkojen valimoartikkeleiden klo NVIDIA, puhuu 17 lokakuu aiheesta "Transform mallit on pelimerkkejä Sub-20nm Technologies". Tohtori Li on yli 20 vuoden kokemus alueilla SRAM, DRAM, pii tuotekehitysprojekteja ja valmistus pelimerkkejä. Hän on aikaisemmin toiminut kaltaisten yritysten kanssa Bell Labs, Sony, Maxim Integrated Products, WaferTech ja SGS-Thomson Mikroelektroniikan johtotehtävissä ja tekniset valmiudet. Tällä hetkellä hän arvioi 20 nm ja 14 nm teknologiaa yhdessä tiiminsä kanssa.

Dr. Han-ku Cho kuka on johtaja ja johtaja Photomask Team Samsung Electronics puhuu lokakuun 19. aiheesta "EUV Valmius ja ASML NXE3100 Performance". Dr. Cho on yli 16 vuoden kokemus alueilla photomask ja litografia. Hän oli myös johtaja hallituksen ohjelman Koreassa EUV litografia yhdeksän vuotta.

Risto Puhakka, toimitusjohtaja, VLSI Research puhuu 20 lokakuu aiheesta, "Business of kaupallistaminen Innovation". Tällä hetkellä hän ei vain hallinnoi neuvontapalveluja VLSI mutta tarjoaa myös analyysi ja neuvoja kaikille johtava siru päättäjät, rahoitusyhtiöiden ja julkisyhteisöille.

Lähde: http://www.sematech.org

Last Update: 19. October 2011 00:14

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit