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Posted in | Nanolithography

Sematech 宣布国际石版印刷讨论会的主要三报告人 2011年

Published on September 29, 2011 at 7:42 AM

卡梅伦柴

全球芯片市场财团 Sematech 宣布 Jia 李博士从 NVIDIA 的将是 2011 个国际专题讨论会的完全演讲人在极其紫外石版印刷 (EUVL) 和石版印刷扩展名。 它也宣布韩ku Cho 博士从三星电子和里斯托从 VLSI 的 Puhakka 的将是主要报告人在这个讨论会。

这个活动在迈阿密将执行从 10月 17-21。 当 EUVL 讨论会由 Sematech 执行与 IMEC 和 EIDEC 合伙时,石版印刷扩展名讨论会由这家公司组织与 imec 合作。

是薄酥饼铸造厂运算主任在 NVIDIA Jia 李的博士,将发表演讲关于在事宜的 10月 17日 “变换设计对与子20nm 技术的筹码”。 李博士有在 20 年期间经验在 SRAM、微量、硅筹码处理 R&D 和制造区。 他以前从事了与象响铃实验室、索尼,格言集成的产品, WaferTech 和 SGS 汤姆生微电子学的公司在管理和技术能力。 目前,他评估 20 毫微米和 14 种毫微米加工技术以及他的小组。

是光掩膜小组副总统和题头在三星电子韩ku Cho 的博士将发表演讲关于在事宜 “EUV 准备的 10月 19日和 ASML NXE3100 性能”。 Cho 博士有超过 16 年经验在领域的光掩膜和石版印刷。 他也是一个政府项目的领导先锋在 EUV 石版印刷的韩国九年。

里斯托 Puhakka,研究总统, VLSI 先生将发表演讲关于在事宜的 10月 20日, “商业化的创新的商业”。 当前,他不仅管理 VLSI 的咨询服务,而且提供分析和忠告给所有主导的芯片市场、金融公司和政府实体。

来源: http://www.sematech.org

Last Update: 12. January 2012 13:06

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