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Posted in | Nanolithography

Sematech 宣佈國際石版印刷討論會的主要三報告人 2011年

Published on September 29, 2011 at 7:42 AM

卡梅倫柴

全球芯片市場財團 Sematech 宣佈 Jia 李博士從 NVIDIA 的將是 2011 個國際專題討論會的完全演講人在極其紫外石版印刷 (EUVL) 和石版印刷擴展名。 它也宣佈韓ku Cho 博士從三星電子和裡斯托從 VLSI 的 Puhakka 的將是主要報告人在這個討論會。

這個活動在邁阿密將執行從 10月 17-21。 當 EUVL 討論會由 Sematech 執行與 IMEC 和 EIDEC 合夥時,石版印刷擴展名討論會由這家公司組織與 imec 合作。

是薄酥餅鑄造廠運算主任在 NVIDIA Jia 李的博士,將發表演講關於在事宜的 10月 17日 「變換設計對與子20nm 技術的籌碼」。 李博士有在 20 年期間經驗在 SRAM、微量、硅籌碼處理 R&D 和製造區。 他以前從事了與像響鈴實驗室、索尼,格言集成的產品, WaferTech 和 SGS 湯姆生微電子學的公司在管理和技術能力。 目前,他評估 20 毫微米和 14 種毫微米加工技術以及他的小組。

是光掩膜小組副總統和題頭在三星電子韓ku Cho 的博士將發表演講關於在事宜 「EUV 準備的 10月 19日和 ASML NXE3100 性能」。 Cho 博士有超過 16 年經驗在領域的光掩膜和石版印刷。 他也是一個政府項目的領導先鋒在 EUV 石版印刷的韓國九年。

裡斯托 Puhakka,研究總統, VLSI 先生將發表演講關於在事宜的 10月 20日, 「商業化的創新的商業」。 當前,他不僅管理 VLSI 的咨詢服務,而且提供分析和忠告給所有主導的芯片市場、金融公司和政府實體。

來源: http://www.sematech.org

Last Update: 27. January 2012 00:30

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