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Tegal Dehnt Frist auf Angebot für seinen Nanolayer-Absetzungs-Technologie-Effektenbestand aus

Published on October 3, 2011 at 3:51 AM

Durch Cameron Chai

US basiertes Tegal hat angekündigt, dass es die Frist für das Bieten für seinen en-basiert Effektenbestand des geistigen Eigentums der nanolayer Absetzungstechnologie (NLD) ausgedehnt hat. Die Frist, die, am 30. September 2011 abzulaufen war, ist jetzt bis zu 5 P.M., Am 15. Oktober 2011 ausgedehnt worden.

Die Firma entschieden auf der Extension, wie verschiedener Halbleiter und IS-Gerätehersteller Zinsen an seinem Effektenbestand gezeigt hatten. Tegals Effektenbestand enthält insgesamt 35 global und lokale Patente auf den Gebieten der Plasma-erhöhten Atomschichtabsetzung (ALD), der pulsierten Absetzung des chemischen Dampfes (CVD) und des NLD.

NLD ist eine Technologie, die den CVD integriert, der nicht-konform ist und hohen Durchsatz und ALD gibt, das ist in hohem Grade konform und gibt niedrigen Durchsatz. Diese Technologie hilft Halbleiter- und IS-Geräteherstellern, die Lebensdauer von Kleinteilen auszudehnen basiert auf CVD-Prozessen ohne den Bedarf zu haben, auf ALD-Prozesse zu verschieben, die durch Vorläufer begrenzt werden.

Das technische Know-how und die Kenntnisse von Tegal haben zu die Erfindung vieler Einheiten wie LED, Vorspeicher und Mikroprozessoren geführt. Die Firma ist auch für die Entwicklung der Ermittlen und Entstörungseinheiten verantwortlich, die jetzt durch die meisten intelligenten Telefone verwendet werden. Die Firma hat auch in der Folge-Leistung, verschiedene Solarkraftwerkprojekte und Projekte der erneuerbaren Energie auf der ganzen Welt zu entwickeln investiert.

Quelle: http://www.Tegal.com

Last Update: 12. January 2012 13:12

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