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Tegal Prolonga Fin De Plazo en la Oferta para su Cartera de la Tecnología de la Deposición de Nanolayer

Published on October 3, 2011 at 3:51 AM

Por Cameron Chai

Tegal basado los E.E.U.U. ha anunciado que ha prolongado el fin de plazo para hacer una oferta para su tecnología de la deposición del nanolayer (NLD) - cartera de propiedades intelectual basada. El fin de plazo, que era expirar el 30 de septiembre de 2011 ahora se ha prolongado hasta 5 P.M., El 15 de octubre de 2011.

La compañía decidida sobre la extensión como el diversos semiconductor y fabricantes de equipamiento de IC habían mostrado un interés en su cartera. La cartera de Tegal comprende un total de 35 globales y patentes locales en los campos de la deposición atómica plasma-aumentada de la capa (ALD), de la deposición de vapor químico pulsada (CVD) y de NLD.

NLD es una tecnología que integra el CVD, que es no-conformal y da la alta producción y ALD, que es altamente conformal y da la producción inferior. Esta tecnología ayuda al semiconductor y a los fabricantes de equipamiento de IC a ampliar la vida de la dotación física basada en procesos del CVD sin tener la necesidad de desviarse a los procesos de ALD que son limitados por los precursores.

Los conocimientos técnicos y el conocimiento técnicos de Tegal ha llevado a la invención de muchos dispositivos tales como LED, memoria anticipada y microprocesadores. La compañía es también responsable del revelado de los dispositivos el detectar y de filtración que ahora son utilizados por la mayoría de los teléfonos elegantes. La compañía también ha invertido en Potencia de la Consecuencia de desarrollar diversos proyectos de la instalación de energía solar y proyectos de energía renovable en todo el mundo.

Fuente: http://www.Tegal.com

Last Update: 4. June 2015 06:14

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